[发明专利]珍珠增光方法及装置

说明书

本发明提供一种珍珠增光方法及装置，其中，所述珍珠增光方法包括：将选自无水甲醇、去离子水、纳米钛、烷基磺酸钠、乙二胺四乙酸二钠、甲基丙烯酸‑2‑氨基乙基酯盐酸盐、氨水溶液、反渗透阻垢缓蚀剂中的几种物质组合分别制成多种处理液，将得到的多种处理液对珍珠依次进行浸泡清洗。本发明的珍珠增光方法使用多种处理液依次完成珍珠增光的浸泡处理，显著提高了珍珠的光泽等级。同时，增光装置中的透明搁置板横置于保温柜中央，方便令珍珠上下表面均匀接受光照；增光装置中的平底密封玻璃槽为宽平底可开口设计，使处理的珍珠接受光照更加充分、均匀。与现有技术相比，能够提高增光效果，同时不影响珍珠的通透性。

技术领域

本发明涉及珍珠增光技术领域，尤其涉及一种珍珠增光方法及实现该方法的装置。

背景技术

目前，现有技术中对于珍珠的增光处理技术主要是：利用各种有机溶剂来浸泡珍珠，达到去除杂质和污垢的效果，但缺点在于效果不是很明显；又如在有机溶剂浸泡的同时增加太阳光照，但不足之处在于受天气影响较大，可利用时间较短。因此，针对上述问题，有必要提出进一步地解决方案。

发明内容

本发明的目的在于提供一种珍珠增光方法、匀光器件以及光学装置，以克服现有技术中存在的不足。

为实现上述发明目的，本发明提供一种珍珠增光方法，其包括：

将选自无水甲醇、去离子水、纳米钛、烷基磺酸钠、乙二胺四乙酸二钠、甲基丙烯酸-2-氨基乙基酯盐酸盐、氨水溶液、反渗透阻垢缓蚀剂中的几种物质组合分别制成多种处理液，将得到的多种处理液对珍珠依次进行浸泡清洗。

作为本发明的珍珠增光方法的改进，将选自无水甲醇、去离子水、纳米钛、烷基磺酸钠、乙二胺四乙酸二钠、甲基丙烯酸-2-氨基乙基酯盐酸盐、氨水溶液、反渗透阻垢缓蚀剂中的五种物质组合分别制成五种处理液，将得到的第一至第五处理液对对珍珠依次进行浸泡清洗。

作为本发明的珍珠增光方法的改进，

所述第一处理液包括如下组份：无水甲醇、纳米钛、烷基磺酸钠；

所述第二处理液包括如下组份：去离子水、纳米钛、烷基磺酸钠、乙二胺四乙酸二钠、甲基丙烯酸-2-氨基乙基酯盐酸盐；

所述第三处理液包括如下组份：无水甲醇、纳米钛、烷基磺酸钠、甲基丙烯酸-2-氨基乙基酯盐酸盐；

所述第四处理液包括如下组份：去离子水、纳米钛、烷基磺酸钠、氨水溶液、反渗透阻垢缓蚀剂；

所述第五处理液包括：无水甲醇、纳米钛、烷基磺酸钠、甲基丙烯酸-2-氨基乙基酯盐酸盐。

作为本发明的珍珠增光方法的改进，利用第一清洗溶液进行浸泡清洗时：将无水甲醇900～1100份；纳米钛4～6份；烷基磺酸钠4～6份进行均匀混合，并将其加热至35～45℃备用。

作为本发明的珍珠增光方法的改进，利用第二清洗溶液进行浸泡清洗时：将去离子水900～1100份；纳米钛4～6份；烷基磺酸钠4～6份；乙二胺四乙酸二钠4～6份；甲基丙烯酸-2-氨基乙基酯盐酸盐15～30份进行均匀混合，并将其加热至5～15℃备用。

作为本发明的珍珠增光方法的改进，利用第三清洗溶液进行浸泡清洗时：将无水甲醇900～1100份；纳米钛4～6份；烷基磺酸钠4～6份；甲基丙烯酸-2-氨基乙基酯盐酸盐15～30份进行均匀混合，并将其加热至35～45℃备用。

作为本发明的珍珠增光方法的改进，利用第四清洗溶液进行浸泡清洗时：将去离子水900～1100份；纳米钛4～6份；烷基磺酸钠4～6份；氨水溶液4～6份；反渗透阻垢缓蚀剂8～12份进行均匀混合，并将其加热至15～25℃备用。