[发明专利]喹啉类化合物及其应用

权利要求书

1.通式I的化合物或其药学上可接受的盐、前药、晶型、立体异构体、互变异构体、水合物或溶剂合物：

式I中，

X选自-CR⁴R⁵-、-NR⁴-、O或S，其中R⁴、R⁵各自独立地表示氢、氘、卤素、烷基、芳基或Het；

Q选自-NR⁶CONR⁷-、-CONR⁶-、-NR⁶CO-、-NR⁶SO₂NR⁷-、-SO₂NR⁶-、-NR⁶SO₂-、-NR⁶-、-NR⁶(CH₂)_mN-、-NR⁶(CH₂)_mO-或-CR⁶R⁷，其中m＝1、2、3、4或5，R⁶、R⁷各自独立地表示氢、氘、烷基、芳基或Het；

虚线表示可以存在单键或双键；

n＝0、1、2或3；

R¹选自氢、卤素、羟基、烷氧基、烷基、芳基或Het；

R²选自氢、卤素、羟基、烷氧基、烷基、芳基或Het；

R³选自氢、卤素、羟基、烷氧基、烷基、芳基或Het；

P选自如下结构：

其中，R¹¹为离去基团或活化酯；R⁸、R⁹、R¹⁰、R¹²各自独立地选自氢、卤素、羟基、烷氧基、烷基、芳基或Het；

烷基为1-6个碳原子的直链或支链饱和烃基、3-6个碳原子的环状饱和烃基，或连有1-6个碳原子直链或支链饱和烃基的3-6个碳原子的环状饱和烃基；

上述基团中，芳基为选自苯基、萘基、苊基或四氢萘基的碳环，其各自任选被1、2或3个取代基取代，各取代基独立地选自氢、烷基、氰基、卤素、硝基、卤代烷基、羟基、巯基、烷氧基、烷硫基、烷氧基烷基、芳烷基、二芳基烷基、芳基或Het；

Het为选自哌啶基、吡咯基、吡唑基、咪唑基、呋喃基、噻吩基、噁唑基、异噁唑基、噻唑基、异噻唑基、吡啶基、嘧啶基、吡嗪基或哒嗪基的单环杂环；或选自喹啉基、喹喔啉基、吲哚基、苯并咪唑基、苯并噁唑基、苯并异噁唑基、苯并噻唑基、苯并异噻唑基、苯并呋喃基、苯并噻吩基、2,3-二氢苯并[1,4]二氧杂环己烯基或苯并[1,3]二氧杂环戊烯基的双环杂环；各单环或双环杂环任选被1、2或3个取代基取代，各取代基独立选自卤素、卤代烷基、羟基、烷基或烷氧基；

卤素选自氟、氯、溴或碘。

2.根据权利要求1所述的化合物，其特征在于：式I中，

X为-NR⁴-或O，其中R⁴选自氢、氘、卤素、烷基、芳基或Het；

Q选自-NR⁶CONR⁷-、-CONR⁶-、-NR⁶CO-、-NR⁶SO₂NR⁷-、-SO₂NR⁶-或-NR⁶SO₂-，其中R⁶、R⁷各自独立地表示氢、氘、烷基、芳基或Het；

虚线表示可以存在单键或双键；

n＝0、1、2或3；

R¹选自氢、卤素或烷基；

R²选自氢、烷基或芳基；

R³选自烷氧基、烷基、芳基或Het。