[发明专利]送取样装置及方法

权利要求书

1.一种送取样装置，其特征在于，包括：

反应室，用于衬底的外延生长；

真空室，包括真空腔，所述真空腔被抽真空至设定的真空度，所述真空室通过第一密封门和所述反应室连接；

预热室，用于对石墨托盘上的衬底预热，所述预热室通过第二密封门和所述真空室连接；

送样室，用于送取石墨托盘，所述送样室通过第三密封门和所述真空室连接；

机械手，设置在所述真空室内，用于在所述送样室、所述预热室和所述反应室之间搬运石墨托盘。

2.根据权利要求1所述的送取样装置，其特征在于，所述反应室包括反应壁和反应腔，所述反应腔由所述反应壁围成；所述反应室大致呈圆柱形，所述石墨托盘放置在所述反应腔的中心轴位置。

3.根据权利要求1所述的送取样装置，其特征在于，所述预热室包括预热壁和预热腔，所述预热腔由所述预热壁围成；所述预热腔内设置有支架，所述支架底部设置有加热器，所述加热器用于对放置在所述支架上的所述石墨托盘上的衬底加热。

4.根据权利要求3所述的送取样装置，其特征在于，所述支架包括相对设置的第一支架和第二支架，所述第一支架和所述第二支架均包括竖直部，两个所述竖直部相对的面上朝对方垂直延伸设置有水平部；所述水平部远离所述竖直部的一端向上垂直延伸设置有支撑部。

5.根据权利要求4所述的送取样装置，其特征在于，每个所述竖直部上的所述水平部的数量有多个，多个所述水平部沿所述竖直部的延伸方向间隔设置。

6.根据权利要求5所述的送取样装置，其特征在于，所述预热壁和所述第二密封门的内侧均设置有保温层。

7.根据权利要求1所述的送取样装置，其特征在于，所述真空室包括真空壁，所述真空壁围成所述真空腔；所述真空室呈正多棱柱形，所述真空腔的中心位置设置有所述机械手，所述真空壁的几个侧面分别和所述反应室、所述预热室及所述送样室连接。

8.根据权利要求7所述的送取样装置，其特征在于，所述真空室为正六棱柱形。

9.根据权利要求7所述的送取样装置，其特征在于，所述真空室与所述反应室、所述预热室及所述送样室连接处分别共用一个墙壁。

10.一种送取样方法，应用如权利要求1-9中任一项所述的送取样装置，其特征在于，包括：

将真空室预先抽真空至设定范围；

将至少一个石墨托盘放入送样室，将送样室抽真空至设定范围；

通过机械手将送样室内的石墨托盘搬运至预热室；

将预热室加热至第一设定温度；

通过机械手将预热室内的石墨托盘搬运至反应室；

反应室进行外延生长，外延生长完成后，降温至第二设定温度；

通过机械手将反应室内的石墨托盘搬运至送样室，送样室降温至第三设定温度，从送样室内取出石墨托盘。