[发明专利]玻璃基板表面粗糙化的方法

说明书

本发明提供一种玻璃基板表面粗糙化的方法，主要为在两块玻璃基板之间加入硬质磨料，该硬质磨料的硬度等于或大于玻璃基板的硬度，用以使该两块玻璃基板相对研磨后，与该硬质磨料接触的玻璃基板表面可获得表面粗化的效果，且玻璃基板可再以药液清洗，使玻璃基板表面产生高低落差的坑谷微结构。

技术领域

本发明与玻璃加工有关，特别是指一种针对高铝盖板玻璃的表面粗糙化的方法。

背景技术

玻璃基板是3C消费电子产品的触控屏或外壳的关键材料(如智慧型手机)，玻璃基板表面粗糙化后所形成的微型坑谷(凹坑)结构，能透亮并达到漫反射的效果，进而发挥抗炫光功能，因此，目前3C消费电子产品的触控屏或外壳表面均有经过粗糙化处理。

下列四种物理性能指标常被用来作为表面粗糙化与漫反射的效能指标，包括透光率(Transmittance)、雾度(Haze)、光泽度(Gross)和粗糙值(Ra)。商业应用时会针对不同用途而有不同的规格要求，例如：作为智慧型手机的前盖板与后盖板，前盖板的规格要求重点在于需配合手机的显示功能，要求高透光率、低雾度、高光泽与较低的Ra值，而后盖板的规格要求重点在于握住手机时手掌与收指触摸背盖板的用户体验，一般会要求低透光率、高雾度、适当的光泽度与略高的Ra值。前述各技术指标的高低均直接取决于玻璃表面粗糙化后的微结构形貌，微结构形貌主要指玻璃表面所形成的微坑谷(又称微凹坑)的大小、高低、形状、均匀性等因素。

目前市面上流行的玻璃表面粗糙化，特别是应用于AG玻璃生产的主流方法，是使用喷砂或化学蒙砂(蒙砂膏或蒙砂液)对玻璃表面先进行粗糙化工序，然后再经化学蚀刻完成，如US6807824、US9446979、US9651720、US5989450、CN207958150及CN106892572等专利所示。喷砂法制作的玻璃表面颗粒度较大且较不均匀，粒子凹坑直径极差范围为40-80μm，凹坑直径均质落于30-70μm区间。化学蒙砂法所制作的玻璃表面例粒子凹坑的品质会比喷砂法要好一点，一般而言，其粒子凹坑直径极差范围仍高达40-60μm，凹坑直径均质落于15-40μm之间。

惟，目前市场主流的喷砂蚀刻或化学蒙砂、蚀刻等方法主要是针对浮法玻璃基板，特别是传统钠钙玻璃板，进行蚀刻工艺，对于高端电子产品运用的玻璃(高铝硅酸盐玻璃)而言，由于其硬度与耐化学腐蚀性均较传统钠钙玻璃大幅提升，传统的喷砂/蒙砂加上传统化学蚀刻方法对于高铝硅酸盐玻璃会发生无效或是AG品质差与极不稳定的现象，目前亦无较佳的制作工艺。

因此，对于触控屏用的高铝玻璃盖板，如何在玻璃表面制作类似坑谷的凹凸微结构，达到玻璃表面抗炫的效果，或是藉由类似坑谷的凹凸微结构增加玻璃表面温润的触感与摩擦力，都是目前业界亟需解决的技术难点。

发明内容

本发明的主要目的即在提供一种玻璃基板表面粗糙化的方法，其硬磨工艺可适用于任何种类的玻璃，特别是高铝玻璃，可使玻璃基板表面产生高低落差的坑谷微结构，适合应用于抗炫玻璃的生产，甚具实用价值。

缘是，为达成前述的目的，本发明提供一种玻璃基板表面粗糙化的方法，主要为在两块玻璃基板之间加入硬质磨料，该硬质磨料的硬度等于或大于玻璃基板的硬度，用以使该两块玻璃基板相对研磨后，与该硬质磨料接触的玻璃基板表面可获得表面粗化的效果。

进一步地，至少包含有以下步骤：a)固定玻璃基板：将两块玻璃基板分别吸附在一研磨设备的一上磨盘与一下磨盘；b)调配研磨浆料：依据玻璃表面需粗糙化的要求，选择预定粗细程度的硬质磨料以调配成该研磨浆料，再置入该研磨设备的一料桶内；c)研磨玻璃基板：启动该研磨设备进行玻璃基板表面研磨，该研磨设备会自动输送研磨浆料至上、下磨盘间的研磨位置，研磨时间为3-15分钟；d)水洗后干燥：卸下两块玻璃基板并予以水洗后干燥。

进一步地，更包含有以下步骤：e)药液清洗：对玻璃基板的研磨面进行药液清洗，清洗时间为1-5分钟，药液由纯水、硫酸和氢氟酸所组成；f)水洗后干燥。