[发明专利]一种低温性能良好的耐蚀中熵合金激光熔覆涂层制备方法

权利要求书

1.一种低温性能良好的耐蚀的中熵合金激光熔覆涂层的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

(1)、中熵合金的成分设计：所述中熵合金的成分为Cr、Co、Ni，其原子百分比为：Cr20-50％，Co20-50％，Ni20-50％，总的百分比为100％；

(2)、所述中熵合金的预处理：将所述中熵合金熔炼后采用雾化的方式得到粉体；

(3)、熔覆基体预处理：将所述熔覆基体表面打磨光滑，并清洗干净，吹干；

(4)、激光熔覆：采用激光器结合送粉法将所述中熵合金熔于所述熔覆基体表面，得到所述中熵合金激光熔覆涂层。

2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中中熵合金的粉体需要烘干和过筛。

3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述中熵合金粉体的粒径为53-150μm。

4.如权利要求1-3任一一项所述的制备方法，其特征在于，步骤(4)具体为将所述中熵合金粉体装入激光熔覆送粉装置中，通过送粉法利用保护气作为载粉气吹送到所述熔覆基体表面，经过激光的高温作用，所述中熵合金粉体熔化、冶金结合、凝固后熔覆在所述熔覆基体上形成所述中熵合金激光熔覆涂层。

5.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述激光熔覆中激光的参数为：激光功率为2000-2500W，扫描速度为7-8mm/s，光斑直径为7.4mm。

6.如权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述激光熔覆送粉过程中氩气保护气流量为10-15L/min，送粉速率为28-32g/min。

7.如权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述激光熔覆采用多道熔覆的方法，搭接率为20-30％。

8.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述中熵合金激光熔覆涂层为单相FCC结构，硬度为250-300HV。

9.一种低温性能良好的耐蚀的中熵合金激光熔覆涂层，其特征在于，中熵合金的成分为Cr、Co、Ni，其原子百分比为：Cr20-50％，Co20-50％，Ni20-50％，总的百分比为100％。

10.如权利要求9所述的一种低温性能良好的耐蚀的中熵合金激光熔覆涂层，其特征在于，所述中熵合金激光熔覆涂层为单相FCC结构，硬度为250-300HV，厚度为2.2-2.5mm。