[发明专利]气体分配装置及等离子体处理装置

权利要求书

1.一种气体分配装置，包括气体挡板及与气体挡板固定连接的安装基板，其特征在于：

所述气体挡板包括中心气体入口、边缘气体入口、与中心气体入口连通的中心气体扩散区域及与边缘气体入口连通的边缘气体扩散区域，所述中心气体扩散区域与边缘气体扩散区域之间的区域设置有若干环形气体通道及若干环形容纳通道，所述环形气体通道与环形容纳通道交错设置；

所述安装基板上设置有贯穿安装基板表面的孔道，所述孔道与所述中心气体扩散区域、边缘气体扩散区域及环形气体通道相连通；

其中，气体自中心气体入口和/或边缘气体入口流入至相应的气体扩散区域并向气体扩散区域周围的环形气体通道与环形容纳通道内扩散，于任一环形容纳通道内设置环形密封圈，以限制气体的扩散，从而将气体限制于所需区域的气体扩散区域与通道内，进而进一步使气体释放至对应区域的孔道内。

2.如权利要求1所述的气体分配装置，其特征在于：所述气体挡板进一步包括中间气体入口及与中间气体入口相连通的中间气体扩散区域，所述中间气体入口位于中心气体入口与边缘气体入口之间，所述中间气体扩散区域位于中心气体扩散区域与边缘气体扩散区域之间且与中心气体扩散区域、边缘气体扩散区域间隔开。

3.如权利要求2所述的气体分配装置，其特征在于：所述中心气体扩散区域与中间气体扩散区域之间的区域设置有若干环形气体通道及若干环形容纳通道，所述中间气体扩散区域与边缘气体扩散区域之间的区域设置有若干环形气体通道及若干环形容纳通道，各气体扩散区域之间的若干环形气体通道及若干环形容纳通道交错设置。

4.如权利要求3所述的气体分配装置，其特征在于：气体自中心气体入口、中间气体入口和边缘气体入口中的至少之一者流入至相应的气体扩散区域并向该气体扩散区域周围的环形气体通道与环形容纳通道扩散，于任一环形容纳通道内设置环形密封圈，以限制气体的扩散，从而将气体限制于所需区域的气体扩散区域与通道内，进而进一步使气体释放至对应区域的孔道内。

5.如权利要求1至4任一项所述的气体分配装置，其特征在于：所述环形气体通道与环形容纳通道的侧面开设有开口，以使气体于环形气体通道及未设置有环形密封圈的环形容纳通道之间流通。

6.如权利要求1至4任一项所述的气体分配装置，其特征在于：设置于安装基板上的孔道与各气体扩散区域及各环形气体通道相连通，而与所述环形容纳通道不连通。

7.如权利要求1至4任一项所述的气体分配装置，其特征在于：所述边缘气体扩散区域的外侧设置有环形槽，所述环形槽内设置有环形密封圈，以阻止气体向气体分配装置的外部流出。

8.如权利要求1至4任一项所述的气体分配装置，其特征在于：所述气体分配装置的下方连接有气体喷淋头，气体于气体分配装置内分区后被气体喷淋头喷射至一等离子体装置的等离子体反应区内。

9.如权利要求1至4任一项所述的气体分配装置，其特征在于：各扩散区域之间设置有至少2组环形气体通道及至少3组环形容纳通道。

10.如权利要求1至4任一项所述的气体分配装置，其特征在于：设置于环形容纳通道内的环形密封圈的直径介于30mm至120mm之间。

11.如权利要求1至4任一项所述的气体分配装置，其特征在于：所述气体挡板与安装基板通过螺栓固定连接。

12.一种等离子体处理装置，包括：

由多个壁围成的反应腔；

设置在反应腔内的基座，用于固定基片；

设置在反应腔内的气体喷淋头，用于引入气体至反应腔内，所述气体喷淋头与所述基座之间为等离子体反应区域；

设置在气体喷淋头上方的气体分配装置，用于对传入的气体进行分区后释放至所述气体喷淋头，所述气体分配装置具有如权利要求1至4任一项所述特征。