[发明专利]一种用于化学发光法的反应室在审
| 申请号： | 201911325633.9 | 申请日： | 2019-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN111077139A | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | 黄伟;盛伟明;杨鹏;陈小平;刘中化;王天阳;许进 | 申请（专利权）人： | 聚光科技（杭州）股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/76 | 分类号： | G01N21/76 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310052 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 化学 发光 反应 | ||
1.一种用于化学发光法的反应室，其特征在于，包括滤光片、密封罩、集成模块、第一导流管和第二导流管，所述密封罩的上端固定有所述滤光片，下端连接有所述集成模块，所述集成模块包括加热模块、第一入口和第二入口，所述第一导流管的一端与所述第一入口相连，另一端设在所述密封罩内，所述第二导流管设置在所述第一导流管内部，所述第二导流管的一端与第二入口相连，另一端设在密封罩内。
2.根据权利要求1所述的一种用于化学发光法的反应室，其特征在于，所述第一导流管处于密封罩内的一端为第一出口，所述第一出口为闭口，所述第二导流管处于密封罩内的一端为第二出口，所述第二出口为开口，所述第二导流管的侧壁上开有第三入口用于连接第一导流管。
3.根据权利要求2所述的一种用于化学发光法的反应室，其特征在于，所述第三入口垂直于所述第二导流管。
4.根据权利要求3所述的一种用于化学发光法的反应室，其特征在于，所述第二导流管内的气体达到第二出口的时间大于等于所述第一导流管内的气体到达第三入口对面管壁的时间。
5.根据权利要求3所述的一种用于化学发光法的反应室，其特征在于，所述第三入口到第二出口的距离为：
其中
x1：第三入口到第二出口的距离，
d：第一导流管直径，
D：第二导流管直径，
Q1：第一导流管流量，
Q2：第二导流管流量。
6.根据权利要求1所述的一种用于化学发光法的反应室，其特征在于，所述加热模块包括加热棒和温度传感器，所述加热模块采用多点加热与多点温度探测。
7.根据权利要求1所述的一种用于化学发光法的反应室，其特征在于，所述密封罩为具有高反特性的耐腐蚀材料。
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