[发明专利]一种基于光学相干层析成像系统的密封性检测方法和终端

权利要求书

1.一种基于光学相干层析成像系统的密封性检测方法，其特征在于，所述密封性检测方法包括：

获取利用所述光学相干层析成像系统采集的待测物品外表面的干涉信号；

对所述干涉信号进行处理，得到所述待测物品外表面的结构图像，并对所述结构图像进行密封性分析，判断所述待测物品是否为密封性良好的物品；

所述光学相干层析成像系统包括：光源、耦合器、参考臂、样品臂和信号采集设备、用于放置所述待测物品的导轨；所述光源，用于发射宽带光；所述耦合器用于将所述宽带光分束，得到参考光和样品光；

所述参考臂包括：第一准直透镜以及n个参考反射镜；所述样品臂包括：n个样品反射镜组；所述导轨中的待测物品沿 导轨的第一位置依次移动到导轨的第n位置；所述n个样品反射镜组分别位于所述导轨的不同方向；n为大于或等于2的整数；

所述参考光经所述第一准直透镜准直后，经所述n个参考反射镜分别进行反射得到n个参考反射光，并且所述n个参考反射光依次射入所述耦合器；

所述样品光经所述n个样品反射镜组分别准直并聚焦后，依次射向位于所述导轨的第一位置到第n位置的待测物品，得到n个样品反射光，所述n个样品反射光经所述n个样品反射镜组射入所述耦合器，并分别与所述耦合器中的n个参考反射光干涉，得到n路包含同一待测物品不同方向的光谱信息的干涉光；

所述信号采集设备用于探测所述干涉光，得到所述待测物品外表面的干涉信号。

2.如权利要求1所述的密封性检测方法，其特征在于，所述对所述结构图像进行密封性分析，判断所述待测物品是否为密封性良好的物品，包括：

将所述结构图像输入预设的分类器，由所述预设的分类器输出所述待测物品是否为密封性良好的物品的分析结果。

3.如权利要求1所述的密封性检测方法，其特征在于，所述导轨设置有待测物品传送装置，所述待测物品传送装置用于带动所述待测物品依次经过所述导轨中的第一位置到第n位置；并在所述信号采集设备采集到所述待测物品的第n干涉光之后，带动下一个待测物品依次经过所述导轨的第一位置到第n位置。

4.一种基于光学相干层析成像系统的密封性检测装置，其特征在于，所述密封性检测装置包括：

获取单元，用于获取利用所述光学相干层析成像系统采集的待测物品外表面的干涉信号；

判断单元，用于对所述干涉信号进行处理，得到所述待测物品的结构图像，并对所述结构图像进行密封性分析，判断所述待测物品是否为密封性良好的物品；

所述光学相干层析成像系统包括：光源、耦合器、参考臂、样品臂和信号采集设备、用于放置所述待测物品的导轨；所述光源，用于发射宽带光；所述耦合器用于将所述宽带光分束，得到参考光和样品光；

所述参考臂包括：第一准直透镜以及n个参考反射镜；所述样品臂包括：n个样品反射镜组；所述导轨中的待测物品沿 导轨的第一位置依次移动到导轨的第n位置；所述n个样品反射镜组分别位于所述导轨的不同方向；n为大于或等于2的整数；

所述参考光经所述第一准直透镜准直后，经所述n个参考反射镜分别进行反射得到n个参考反射光，并且所述n个参考反射光依次射入所述耦合器；

所述样品光经所述n个样品反射镜组分别准直并聚焦后，依次射向位于所述导轨的第一位置到第n位置的待测物品，得到n个样品反射光，所述n个样品反射光经所述n个样品反射镜组射入所述耦合器，并分别与所述耦合器中的n个参考反射光干涉，得到n路包含同一待测物品不同方向的光谱信息的干涉光；

所述信号采集设备用于探测所述干涉光，得到所述待测物品外表面的干涉信号。

5.如权利要求4所述的密封性检测装置，其特征在于，所述判断单元还具体用于：

将所述结构图像输入预设的分类器，由所述预设的分类器输出所述待测物品是否为密封性良好的物品的分析结果。

6.一种终端，包括存储器、处理器以及存储在所述存储器中并可在所述处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述计算机程序时实现如权利要求1-3任一项所述方法的步骤。

7.一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1-3任一项所述方法的步骤。