[发明专利]一种用于低熔体强度塑料挤出涂覆的工艺及设备

权利要求书

1.一种用于低熔体强度塑料挤出涂覆的工艺，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一，挤出步骤，从挤出机的模头(100)挤出涂覆层；

步骤二，保温步骤，所述涂覆层贯穿扁平的模唇延伸通道(200)；

步骤三，贴合步骤，所述涂覆层与基材在贴合区域(300)复合。

2.根据权利要求1所述的一种用于低熔体强度塑料挤出涂覆的工艺，其特征在于，所述模唇延伸通道(200)的温度为150～230℃。

3.根据权利要求1所述的一种用于低熔体强度塑料挤出涂覆的工艺，其特征在于，所述模唇延伸通道(200)的一端由所述模头(100)封闭。

4.根据权利要求1所述的一种用于低熔体强度塑料挤出涂覆的工艺，其特征在于，所述模唇延伸通道(200)的长度为40～100mm。

5.根据权利要求1所述的一种用于低熔体强度塑料挤出涂覆的工艺，其特征在于，所述模唇延伸通道(200)的宽度为10～20mm。

6.根据权利要求1所述的一种用于低熔体强度塑料挤出涂覆的工艺，其特征在于，所述模唇延伸通道(200)与所述贴合区域(300)的最短距离为90～150mm。

7.一种用于塑料挤出涂覆的设备，其特征在于，包括模唇延伸装置(210)，所述模唇延伸装置(210)用于形成权利要求1至6任一所述的模唇延伸通道(200)，所述模唇延伸装置(210)安装于权利要求1所述的模头(100)。

8.根据权利要求7所述的一种用于塑料挤出涂覆的设备，其特征在于，所述模唇延伸装置(210)包括第一侧壁(211)，所述第一侧壁(211)内设置加热器，所述第一侧壁(211)设置于所述模唇延伸通道(200)的宽度方向，所述第一侧壁(211)与所述模头(100)铰接。

9.根据权利要求8所述的一种用于塑料挤出涂覆的设备，其特征在于，所述第一侧壁(211)的自由端设置有斜角，所述斜角设置于所述第一侧壁(211)背向所述模唇延伸通道(200)的一侧。

10.根据权利要求8所述的一种用于塑料挤出涂覆的设备，其特征在于，所述模唇延伸装置(210)包括第二侧壁(212)，所述第二侧壁(212)与所述第一侧壁(211)相邻设置，所述第二侧壁(212)与所述模头(100)连接固定。