[发明专利]一种化学机械抛光液在审
| 申请号： | 201911320536.0 | 申请日： | 2019-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN113004798A | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 李守田;任晓明;贾长征 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;王芳 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【权利要求书】：
1.一种化学机械抛光液，包含水、氧化铈和羟胺。
2.如权利要求1所述化学机械抛光液，其中所述氧化铈的浓度为0.01wt％-2wt％。
3.如权利要求1所述化学机械抛光液，其中羟胺的浓度为0.002wt％-0.4wt％。
4.如权利要求1所述化学机械抛光液，进一步包含pH调节剂。
5.如权利要求4所述化学机械抛光液，pH调节剂为氨水、氢氧化钾或硝酸、硫酸、醋酸。
6.如权利要求1-5任一所述化学机械抛光液，进一步包含4-羟基苯甲酸。
7.如权利要求6所述化学机械抛光液，所述4-羟基苯甲酸的浓度为0.002wt％-0.2wt％。
8.如权利要求1-5任一所述化学机械抛光液，进一步包含水杨羟肟酸。
9.如权利要求8所述化学机械抛光液，所述水杨羟肟酸的浓度为0.001wt％-0.2wt％。
10.如权利要求1所述化学机械抛光液，pH范围为3-6。
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