[发明专利]光罩及其制作方法在审
| 申请号： | 201911318776.7 | 申请日： | 2019-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN113009778A | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 纪荣昌;于海涛;陈瑶;张莉 | 申请（专利权）人： | 上海仪电显示材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/68 | 分类号： | G03F1/68;G03F1/54;G03F1/62 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 唐嘉 |
| 地址： | 201108 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 及其 制作方法 | ||
1.一种光罩的制作方法，其特征在于，包括：
提供透明基材；
在所述透明基材表面形成吸收层；
在所述吸收层表面形成半透膜层；
在所述半透膜层表面形成光催化薄膜层。
2.如权利要求1所述的光罩的制作方法，其特征在于，形成所述光催化薄膜层的方法为溶胶凝胶法或液相沉积法。
3.如权利要求2所述的光罩的制作方法，其特征在于，所述溶胶凝胶法采用的溶剂为无水乙醇。
4.如权利要求2所述的光罩的制作方法，其特征在于，所述液相沉积法采用的反应溶液为四氯化钛的氢氧化钠溶液。
5.如权利要求1所述的光罩的制作方法，其特征在于，所述光催化薄膜层厚度为50nm～2000nm。
6.如权利要求1所述的光罩的制作方法，其特征在于，所述光催化薄膜层为二氧化钛薄膜层。
7.如权利要求6所述的光罩的制作方法，其特征在于，形成所述二氧化钛薄膜层后，还包括：对所述二氧化钛薄膜层进行掺杂。
8.如权利要求7所述的光罩的制作方法，其特征在于，所述掺杂包括非金属掺杂、过渡金属掺杂、贵金属掺杂或镧系元素掺杂。
9.如权利要求6所述的光罩的制作方法，其特征在于，所述二氧化钛薄膜层由锐钛矿和金红石组成，其中，所述锐钛矿的质量比例为20％～40％。
10.如权利要求1所述的光罩的制作方法，其特征在于，所述半透膜层为铬化合物层。
11.如权利要求1所述的光罩的制作方法，其特征在于，形成所述半透膜层的方法为化学气相沉积法。
12.一种光罩，其特征在于，包括：
透明基材；
吸收层，所述吸收层设置于所述透明基材表面；
半透膜层，所述半透膜层设置于所述吸收层表面；
光催化薄膜层，所述光催化薄膜层设置于所述吸收层表面。
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