[发明专利]硅片的转角输送方法

权利要求书

1.硅片的转角输送方法，其特征在于，采用转角输送装置改变硅片的输送方向，使硅片的输送方向由第一水平方向改变为第二水平方向，且第二水平方向与第一水平方向相垂直；

所述转角输送装置包括：可沿第二水平方向输送硅片的辊道，可与辊道对接、且可沿第一水平方向输送硅片的皮带输送机构，以及可驱动皮带输送机构垂直升降的升降驱动机构；

所述皮带输送机构包括：沿第一水平方向设置的主架体，以及设于主架体上、且沿第一水平方向依次设置的多个皮带输送段；该多个皮带输送段可分别独立沿第一水平方向输送硅片；且该多个皮带输送段依次对接，可沿第一水平方向接力输送硅片；

所述升降驱动机构与主架体连接；

所述辊道包括多个传送辊，各传送辊都与第一水平方向平行，且各传送辊都跨越上述多个皮带输送段；

所述转角输送方法包括如下步骤：

将辊道与后道设备的硅片输入端对接，该后道设备沿第二水平方向并排输送由辊道送来的硅片；

将皮带输送机构与前道设备的硅片输出端对接，该前道设备沿第一水平方向逐片输出矩形硅片，且前道设备输出硅片时，硅片的长度方向与第一水平方向垂直，硅片的宽度方向与第一水平方向平行；前道设备的硅片输出端高于辊道的传送辊；

皮带输送机构的多个皮带输送段接收由前道设备逐片输出的硅片，直至每个皮带输送段上承载一片硅片，且各硅片的长度方向与第一水平方向垂直，各硅片的宽度方向与第一水平方向平行；

然后升降驱动机构驱动皮带输送机构垂直下降，使皮带输送机构与辊道对接，且皮带输送机构与辊道对接时，各皮带输送段上承载的硅片与辊道的传送辊接触，辊道将各皮带输送段上承载的硅片并排输送，且硅片在辊道上输送时，硅片的长度方向与第二水平方向平行，硅片的宽度方向与第二水平方向垂直；

各皮带输送段上承载的硅片与皮带输送机构脱离后，升降驱动机构驱动皮带输送机构垂直上升，使皮带输送机构与前道设备的硅片输出端对接，以便接收下一批硅片。

2.根据权利要求1所述的硅片的转角输送方法，其特征在于，各传送辊上分别套装有多个橡胶圈，橡胶圈与其所在的传送辊共轴心。

3.根据权利要求2所述的硅片的转角输送方法，其特征在于，各传送辊上分别设有多个用于安装橡胶圈的环形槽，环形槽与其所在的传送辊共轴心，且同一传送辊上的环形槽沿该传送辊的轴向均布；橡胶圈分别固定在对应的环形槽中，且橡胶圈凸出其所在的环形槽。

4.根据权利要求1所述的硅片的转角输送方法，其特征在于，各皮带输送段分别包括设于主架体上的：可沿第一水平方向同步输送硅片的一对传送皮带，以及驱动该对传送皮带同步运转的皮带驱动机构。

5.根据权利要求4所述的硅片的转角输送方法，其特征在于，上述一对传送皮带分设于主架体的两侧。

6.根据权利要求1所述的硅片的转角输送方法，其特征在于，所述升降驱动机构包括：支承主架体的升降座，以及驱动升降座垂直升降的升降缸。

7.根据权利要求6所述的硅片的转角输送方法，其特征在于，所述升降座位于主架体的下方。

8.根据权利要求7所述的硅片的转角输送方法，其特征在于，所述升降缸位于升降座的下方。