[发明专利]一种神经刺激阵列系统及其制备方法

权利要求书

1.一种神经刺激阵列系统，其特征在于，包括柔性基底、光电响应层和电极层；其中，所述光电响应层嵌入所述柔性基底中，所述光电响应层由光电转化材料阵列排布而成，所述电极层位于所述光电响应层上。

2.根据权利要求1所述的神经刺激阵列系统，其特征在于，所述光电响应层的厚度小于或等于所述柔性基底的厚度。

3.根据权利要求2所述的神经刺激阵列系统，其特征在于，所述光电响应层的厚度为5-500μm，所述柔性物基底的厚度为5-500μm。

4.根据权利要求1所述的神经刺激阵列系统，其特征在于，所述柔性基底具有孔阵列，所述光电响应层填充在所述孔阵列的孔中；所述孔为通孔或盲孔。

5.根据权利要求1所述的神经刺激阵列系统，其特征在于，所述孔为圆形、三角形、四边形、多边形或不规则形状。

6.根据权利要求1所述的神经刺激阵列系统，其特征在于，所述电极层的厚度为50-300nm。

7.根据权利要求1所述的神经刺激阵列系统，其特征在于，所述光电转化材料为光伏材料、光致形变材料复合压电材料、上转换材料复合光电材料中的至少一种。

8.根据权利要求1所述的神经刺激阵列系统，其特征在于，所述电极层的材质选自铂、金、钛、铱、钯、铌、钽及其合金、氮化钛、氧化铱、氧化铟锡、掺铝氧化锌、掺氟二氧化锡和掺磷二氧化锡中的至少一种。

9.一种神经刺激阵列系统的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供硬质衬底，在所述硬质衬底上制备柔性基底；

在所述柔性基底上制备孔阵列，将光电转换材料填充到所述孔阵列的孔中，形成嵌入所述柔性基底的光电响应层；其中，所述光电响应层由光电转化材料阵列排布而成；

在所述光电响应层的光电转换材料上形成电极层；

去除所述硬质衬底，得到神经刺激阵列系统。

10.如权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述柔性基底通过涂布法、浇灌法或流延法形成。

11.如权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述孔阵列通过光刻、等离子干法刻蚀和机械加工中的至少一种形成。

12.如权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述光电转换材料的填充方式包括物理包埋、涂布、流延和原位生长中的一种或多种。