[发明专利]电致调光玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种电致调光玻璃制备方法，其特征在于，包括：

提供玻璃基板；

在所述玻璃基板上形成第一导电层；

在所述第一导电层上形成第一辅调光层；

在所述第一辅调光层上形成第一离子导体层；

在所述第一离子导体层上形成第一主调光层；

在所述第一主调光层上形成第二导电层；

在所述第二导电层上形成第二主调光层；

在所述第二主调光层上形成第二离子导体层；

在所述第二离子导体层上形成第二辅调光层；

在所述第二辅调光层上形成第三导电层；以及

在所述第三导电层上形成顶层保护层。

2.根据权利要求1所述的电致调光玻璃制备方法，其特征在于，所述第一主调光层、所述第二主调光层的靶材材料分别选自于W、Mo、Nb、Ti、Ta中至少两种组合的氧化物。

3.根据权利要求1所述的电致调光玻璃制备方法，其特征在于，所述第一辅调光层、所述第二辅调光层的靶材材料分别选自于Ni、V、Co、Ir、Fe、Mn中至少两种元素组合的氧化物。

4.根据权利要求1所述的电致调光玻璃制备方法，其特征在于，所述第一主调光层、所述第二主调光层的厚度范围分别为30nm-500nm；所述第一辅调光层、所述第二辅调光层的厚度范围分别为20nm-500nm。

5.一种电致调光玻璃，其特征在于，包括玻璃基板和依次形成于所述玻璃基板同一侧的第一导电层、第一辅调光层、第一离子导体层、第一主调光层、第二导电层、第二主调光层、第二离子导体层、第二辅调光层、第三导电层以及顶层保护层。

6.根据权利要求5所述的电致调光玻璃，其特征在于，所述第一主调光层、所述第二主调光层的材料分别选自于W、Mo、Nb、Ti、Ta中至少两种组合的氧化物；所述第一主调光层、所述第二主调光层的厚度范围分别为30nm-500nm。

7.根据权利要求5所述的电致调光玻璃，其特征在于，所述第一辅调光层、所述第二辅调光层的材料分别选自于Ni、V、Co、Ir、Fe、Mn中至少两种元素组合的氧化物；所述第一辅调光层、所述第二辅调光层的厚度范围分别为20nm-500nm。

8.根据权利要求5所述的电致调光玻璃，其特征在于，所述第一导电层、所述第二导电层、所述第三导电层的材料分别选自于FTO、ITO、IGZO、AZO、GZO、Ag中的一种或至少两种的组合；所述第一导电层、所述第二导电层的厚度范围分别为1-1100nm；所述第三导电层的厚度范围为10-1000nm。

9.根据权利要求5所述的电致调光玻璃，其特征在于，所述第一离子导体层、所述第二离子导体层的材料分别选自于H、Li、Na、K、Mg中的一种或至少两种的组合；所述第一离子导体层、所述第二离子导体层的厚度范围分别为10nm-100nm。

10.根据权利要求5所述的电致调光玻璃，其特征在于，所述顶层保护层的材料选自于Si、Ti、Zn、Sn、Nb、Ta之一的氧化物或氮化物或氮氧化物；所述顶层保护层的厚度范围为0.2-100nm。