[发明专利]一种用于碳纳米管原料雾化的专用雾化装置

权利要求书

1.一种用于碳纳米管原料雾化的专用雾化装置，其特征在于，包括储液单元、输液单元、雾化单元和输气单元以及碳纳米管生长腔，所述输液单元包括输液管路和蠕动泵，所述输液管路上设有所述蠕动泵，所述雾化单元包括相连通的缓冲腔和雾化喷头，所述缓冲腔和所述碳纳米管生长腔相连通，所述输气单元包括气源、输气管路以及用于给反应气增压的气体增压泵，所述气源提供的气体为用于碳纳米管生产的反应气，所述输气管路设有所述气体增压泵，所述输液管路的一端连通所述储液单元，另一端连通所述雾化喷头，所述输气管路的一端连通所述气源，另一端连通所述雾化喷头。

2.根据权利要求1所述的用于碳纳米管原料雾化的专用雾化装置，其特征在于，所述气体增压泵的气体输出压力可调，且气体增压泵可自动保压，经由增压过后的气体输出压力为0.1-1.6 MPa。

3.根据权利要求1所述的用于碳纳米管原料雾化的专用雾化装置，其特征在于，经过所述蠕动泵加压过后的液体压力为0.1-0.3 MPa。

4.根据权利要求1所述的用于碳纳米管原料雾化的专用雾化装置，其特征在于，所述雾化喷头为二流体雾化喷头，所述雾化喷头包含喷头本体，所述喷头本体设有进液口和进气口，所述进液口和所述进气口分别与所述输液管路和所述输气管路连接。

5.根据权利要求4所述的用于碳纳米管原料雾化的专用雾化装置，其特征在于，所述喷头本体可拆卸设有喷嘴，所述喷嘴为圆形或扇形喷嘴。

6.根据权利要求1所述的用于碳纳米管原料雾化的专用雾化装置，其特征在于，所述雾化喷头通过调节气体压力或液体压力对喷出液滴的大小进行控制。

7.根据权利要求1所述的用于碳纳米管原料雾化的专用雾化装置，其特征在于，所述雾化喷头喷出的液滴大小范围为15-60微米。