[发明专利]一种具有特殊结构的精密抛光膜及其制备方法

说明书

本发明涉及抛光膜技术领域，具体涉及一种具有特殊结构的精密抛光膜及其制备方法，该精密抛光膜包括基材层和设置于所述基材层表面的涂层，所述涂层中分布有磨料，所述涂层包括间隔设置的密纹区和疏纹区，所述密纹区的磨料分布密度大于疏纹区的磨料分布密度，相邻的密纹区与疏纹区的间隔距离为20‑200μm。本发明的精密抛光膜，结构新颖，通过密纹区和疏纹区的设置，密纹区增强对工件的打磨性，而打磨后的工件削末则通过疏纹区导出，避免打磨削末堵塞在抛光膜上而影响抛光效率和效果，使得抛光膜能有效提高抛光膜的抛光效率，且强弱打磨效果的间隔设置，避免出现划伤、凹痕等现象。

技术领域

本发明涉及抛光膜技术领域，具体涉及一种具有特殊结构的精密抛光膜及其制备方法。

背景技术

目前的精密抛光产品中，为了保证塑料薄膜基材的涂布性能和附着力，行业内一般的精密抛光膜是采用的都是溶剂型树脂胶黏剂，但溶剂型的树脂胶黏剂会释放VOC，污染环境，不利于环保发展。

此外，行业内一般的精密抛光膜是平整且磨料是均匀分布的，这种纯平的表面虽然抛光Ra值比较小，但是抛光速率较低，不适合对抛光速率要求高的工艺。

同时，行业内一般的精密抛光膜生产主要采用多辊式涂布、刮刀式涂布的方式；多辊式涂布的产品精度高，但是结构较为复杂，对涂布辊的表面光洁度和同心度、设备调节精度、轴承配置等要求很高，对操作人员要求高，降低了生产效率；刮刀式涂布结构简单，但是难以控制精度，不适合精密度高的抛光膜生产。

发明内容

为了克服现有技术中存在的缺点和不足，本发明的目的在于提供一种具有特殊结构的精密抛光膜，该抛光膜的结构新颖，通过密纹区和疏纹区的设置，密纹区增强对工件的打磨性，而打磨后的工件削末则通过疏纹区导出，避免打磨削末堵塞在抛光膜上而影响抛光效率和效果，使得抛光膜能有效提高抛光膜的抛光效率，且强弱打磨效果的间隔设置，避免打磨工件出现划伤、凹痕等现象。

本发明的另一目的在于提供一种具有特殊结构的精密抛光膜的制备方法，该制备方法操作简单，易于控制，生产效率高，生产成本低，能使制得的精密抛光膜质量稳定，能对工件进行均匀的打磨，可大规模生产。

本发明的目的通过下述技术方案实现：一种具有特殊结构的精密抛光膜，包括基材层和设置于所述基材层表面的涂层，所述涂层中分布有磨料，所述涂层包括间隔设置的密纹区和疏纹区，所述密纹区的磨料分布密度大于疏纹区的磨料分布密度，相邻的密纹区与疏纹区的间隔距离为20-200μm。具体地，相邻的密纹区与疏纹区的间隔距离可以为20μm、60μm、120μm、160μm或200μm。

本发明的精密抛光膜结构新颖，通过密纹区和疏纹区的设置，疏密交替的纹路在打磨时产生微米级的震动，能够加快打磨时工件材料的碎裂和剥离，即产生磨屑的过程，从而提高打磨效率，而打磨后的工件磨屑又可以通过疏纹区导出，避免打磨削末堵塞在抛光膜上而影响抛光效率和效果，使得抛光膜能有效提高抛光膜的抛光效率，且强弱打磨效果的间隔设置，避免出现划伤、凹痕等现象，实用性高。

优选的，所述密纹区的磨料分布密度与疏纹区的磨料分布密度之比为10-50:1；所述密纹区和疏纹区均呈条纹状。具体地，所述密纹区的磨料分布密度与疏纹区的磨料分布密度之比为10:1、20:1、30:1、40:1或50:1。

优选的，所述基材层的厚度为50-200μm；所述涂层的密纹区的最高处厚度a为磨料粒径的1.5-3倍；所述涂层的疏纹区的最低处厚度b为磨料粒径的1-1.5倍。