[发明专利]竖直腔面发射激光装置与制作微透镜的方法

权利要求书

1.一种竖直腔面发射激光装置，其特征在于，包括：

反射层堆叠，包括第一材料和第二材料的交替反射层；以及

微透镜堆叠，布置在所述反射层堆叠上方且包括：

第一透镜层，包括第一元素的第一平均浓度且具有第一宽度；

第二透镜层，布置在所述第一透镜层上方且包括大于所述第一平均浓度的所述第一元素的第二平均浓度且具有小于所述第一宽度的第二宽度；以及

第三透镜层，布置在所述第二透镜层上方且包括大于所述第二平均浓度的所述第一元素的第三平均浓度且具有小于所述第二宽度的第三宽度。

2.根据权利要求1所述的竖直腔面发射激光装置，其特征在于，所述第一透镜层包括所述第一材料且直接地接触包括所述第二材料的所述反射层堆叠的最顶部反射层。

3.根据权利要求1所述的竖直腔面发射激光装置，其特征在于，更包括：

第一氧化透镜层，将所述第一透镜层与安置在所述反射层堆叠正上方的侧壁间隔物横向地分离；

第二氧化透镜层，将所述第二透镜层与所述侧壁间隔物横向地分离；以及

第三氧化透镜层，将所述第三透镜层与所述侧壁间隔物横向地分离。

4.根据权利要求1所述的竖直腔面发射激光装置，其特征在于，所述第一元素的浓度从所述第一透镜层的最底部表面增大到所述第一透镜层的最顶部表面。

5.一种竖直腔面发射激光装置，其特征在于，包括：

反射层堆叠，包括交替堆叠的多个第一反射层以及多个第二反射层，其中所述多个第一反射层包括第一组合物且所述多个第二反射层包括与所述第一组合物不同的第二组合物；以及

微透镜堆叠，包括由氧化透镜层横向包围的透镜层，所述氧化透镜层横向接触所述反射层堆叠正上方的侧壁间隔物，其中所述透镜层包括：

最底部透镜层，具有第一最大宽度；

中间透镜层，具有小于所述第一最大宽度的第二最大宽度；以及

最顶部透镜层，具有小于所述第二最大宽度的第三最大宽度。

6.根据权利要求5所述的竖直腔面发射激光装置，其特征在于，所述最底部透镜层的底面包括第一元素的第一浓度，其中所述最底部透镜层的顶面包括所述第一元素的第二浓度，且其中所述第二浓度大于所述第一浓度。

7.根据权利要求5所述的竖直腔面发射激光装置，其特征在于，更包括：

最顶部额外第二反射层，布置在所述最顶部透镜层上方。

8.根据权利要求5所述的竖直腔面发射激光装置，其特征在于，所述透镜层的最外部侧壁分别弯曲，且其中所述透镜层分别包括具有比最顶部表面更大的最大宽度的最底部表面。

9.一种制作微透镜的方法，其特征在于，所述方法包括：

在第二反射层上方形成第一透镜层且包括第一元素的第一平均浓度；

在所述第一透镜层上方形成第一额外反射层；

在所述第一额外反射层上方形成第二透镜层且包括大于所述第一平均浓度的所述第一元素的第二平均浓度；

在所述第二透镜层上方形成第二额外反射层；以及

执行氧化工艺来氧化所述第一透镜层和所述第二透镜层的外围部分以形成所述第一透镜层的氧化外围部分以及所述第二透镜层的氧化外围部分，其中所述第二透镜层的所述氧化外围部分比所述第一透镜层的所述氧化外围部分更宽。

10.根据权利要求9所述的制作微透镜的方法，其特征在于，更包括：

根据遮蔽层执行蚀刻工艺以去除所述第一透镜层、所述第一额外反射层、所述第二透镜层以及所述第二额外反射层的最外部边缘，使得所述第二反射层比所述第一额外反射层更宽，其中在形成所述第二额外反射层后且在执行所述氧化工艺之前执行所述蚀刻工艺。