[发明专利]一种光学测量中条纹滤波器的构造方法有效
| 申请号: | 201911260110.0 | 申请日: | 2019-12-10 | 
| 公开(公告)号: | CN111220092B | 公开(公告)日: | 2021-04-23 | 
| 发明(设计)人: | 王辰星;任海东 | 申请(专利权)人: | 东南大学 | 
| 主分类号: | G01B11/25 | 分类号: | G01B11/25 | 
| 代理公司: | 南京众联专利代理有限公司 32206 | 代理人: | 郭微 | 
| 地址: | 210096 *** | 国省代码: | 江苏;32 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 光学 测量 条纹 滤波器 构造 方法 | ||
1.一种光学测量中条纹滤波器的构造方法,其特征在于,具体步骤为:
步骤1:对条纹图像进行自相关计算,提取横、纵方向的自相关系数值,进一步计算两者的相关性系数,截取有用的系数部分并从中提取出代表正弦条纹周期的信息;
步骤2:分析所提取周期的变化情况和变化趋势,估算出条纹滤波器的尺寸;
步骤3:使用基于正弦辅助的筛分计算,直接滤取有用的条纹信息;
所述步骤1对长度为r、高度为c的二维条纹图像I(x,y)进行如式(1)的二维自相关函数的计算:
其中,τ1和τ2为自相关系数A(τ1,τ2)的坐标,取值范围分别为-c+1≤τ1≤c-1和-r+1≤τ2≤r-1;
选取A(τ1,τ2)的中心横轴A(0,τ2)和中心纵轴A(τ1,0),分别对它们进行差分计算以突出两者的正弦波动,即得:
计算ΔA(τ1)和ΔA(τ2)的相关性系数如下:
R(τ)=∑ΔA(τ2)ΔA(τ1-τ), (3)
其中τ为相关性系数R(τ)的坐标,其坐标范围为-(c+r)+1≤τ≤(c+r)-1;
对R(τ)进行差分计算以突出正弦波动,可得:
ΔR(τ)=R(τ+1)-R(τ). (4)
找到ΔR(τ)的最小值,记为Min[ΔR(τ)],Min[·]代表求最小值的运算符号,以该值为起始,向右截取坐标长度为Min[(r,c)]/2的ΔR(τ)值,作为相关性最大、最能体现正弦波动的相关性系数,写作ΔR0(τ0),其中τ0代表新的坐标,取值范围为1≤τ0≤Min[(r,c)]/2+1;
对ΔR0(τ0)求所有极小值点,求这些极小值点两两之间的距离作为正弦波动的统计周期值,写作P(i),1≤i≤L,L代表统计周期值的个数;
所述步骤2分析所提取统计周期值的变化情况和变化趋势,估算滤波器的尺寸,具体步骤为:
1)判断式(5)所示条件是否满足:
如果满足,则设置滤波器尺寸T为:
T=P(1), (6)
否则,设置滤波器尺寸为:
其中,κ为比例系数,i1为分割第一组变化趋势一样的统计周期的坐标序数;
2)计算式(7)中的比例系数κ,通过式(8)判断统计周期值序列P(i)是否呈整体增长趋势:
如果满足,则令否则,则令κ=1;
3)确定式(7)中的坐标序数i1,首先,找到P(i)的第一个极值点,令该极值点的坐标序数为i1;如果P(i)不存在极值点,则找出P(i)中最大周期值对应的序数为i1;其次,分析P(i1)临近的周期值情况来进一步修正确认i1,具体做法为:
I)如果P(i1+1)也是一个极值点,并且满足一下三种情况中的任意一个,则修改i1=i1+1,三种情况为:
情况1:P(i1)是极小值而P(i1+1)是极大值且P(i1+1)≥P(1);
情况2:P(i1)是极大值而P(i1+1)是极小值且P(i1+1)≤P(1);
情况3:从P(1)到P(i1)都是相等值,而P(i1+1)也是个极值或者P(i1+1)=P(i1+2);
II)如果P(i1+1)不是极值点但P(i1+2)≥P(1),则修改i1=i1+1;
III)如果P(i1+1)不是极值点,但P(i1+1)与P(i1)相等且P(i1)是极小值,则修改i1=i1-1;
所述步骤3使用基于正弦辅助的筛分计算,直接滤取有用的条纹信息,具体步骤为:
1.1)对条纹图像I(x,y)使用快速经验模态分解法进行单层尺度的分解,其中快速经验模态分解法单层分解函数的输入为条纹图像I(x,y)以及步骤2所得的滤波尺寸T,输出为BIMF(x,y),根据BIMF(x,y)的幅值和频率,设计二维正弦分布图s(x,y)=acos(2πfx)·cos(2πfy),其中,幅值a=max(|BIMF(x,y)|),max(·)为求最大值操作,频率
1.2)将二维正弦分布图s(y,x)与初始分解图BIMF(x,y)分别进行相加和相减,得到对进行快速经验模态分解法单层分解,输入参数为尺寸T,得到第一中间分解图同样地,对进行快速经验模态分解法单层分解,得到第二中间分解图
1.3)对所得到的第一中间分解图和第二中间分解图求平均值:
BIMFPMS(x,y)即为最终滤得的I(x,y)所含的条纹分量,而滤除的背景光分量则为Back(x,y)=I(x,y)-BIMFPMS(x,y)。
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