[发明专利]显示装置用基板及其制造方法、以及这些中使用的防反射层用树脂组合物溶液

权利要求书

1.一种显示装置用基板，其特征在于，包括：

透明基板；以及

遮光膜，所述遮光膜包括：配置于所述透明基板上，含有折射率为1.2～1.8的无机填料及透明树脂硬化物，且平均厚度为0.01μm～1μm的防反射层；以及配置于所述防反射层上，含有选自由有机黑色颜料、无机黑色颜料及混色伪黑色颜料所组成的群组中的至少一种遮光成分及树脂硬化物，且平均厚度为0.1μm～30μm的遮光层，并且所述防反射层与所述遮光层的界面处的所述防反射层的表面粗糙度为40nm～200nm。

2.根据权利要求1所述的显示装置用基板，其特征在于，所述无机填料的平均粒径为25nm～300nm。

3.根据权利要求1或2所述的显示装置用基板，其特征在于，相对于所述防反射层整体，所述无机填料的含量为5质量％～95质量％。

4.一种显示装置用基板的制造方法，所述显示装置用基板包括透明基板以及配置于所述透明基板上的包括防反射层及遮光层的遮光膜，所述显示装置用基板的制造方法的特征在于，包括：

在所述透明基板上，形成含有折射率为1.2～1.8的无机填料及光硬化性透明树脂、平均厚度为0.01μm～1μm且表面粗糙度为40nm～200nm的防反射层用树脂组合物层的步骤；

在所述防反射层用树脂组合物层上，形成含有选自由有机黑色颜料、无机黑色颜料及混色伪黑色颜料所组成的群组中的至少一种遮光成分及光硬化性树脂的遮光层用树脂组合物层的步骤；以及

对所述防反射层用树脂组合物层及所述遮光层用树脂组合物层一并实施曝光处理后，一并实施显影处理，并且实施后烘烤，而形成含有所述无机填料及透明树脂硬化物的防反射层以及含有所述遮光成分及树脂硬化物且平均厚度为0.1μm～30μm的遮光层的步骤。

5.根据权利要求4所述的显示装置用基板的制造方法，其特征在于，所述防反射层用树脂组合物层中的光硬化性透明树脂及所述遮光层用树脂组合物层中的光硬化性树脂均为碱可溶性，所述显影处理为碱显影处理。

6.一种显示装置用基板的制造方法，所述显示装置用基板包括透明基板以及配置于所述透明基板上的包括防反射层及遮光层的遮光膜，所述显示装置用基板的制造方法的特征在于，包括：

在所述透明基板上，对含有折射率为1.2～1.8的无机填料及热硬化性透明树脂与热硬化性单体中的至少一种的防反射层用树脂组合物实施加热硬化处理，形成平均厚度为0.01μm～1μm且表面粗糙度为40nm～200nm的防反射层的步骤；以及

在所述防反射层上，对含有选自由有机黑色颜料、无机黑色颜料及混色伪黑色颜料所组成的群组中的至少一种遮光成分及光硬化性树脂的遮光层用树脂组合物实施曝光处理后，实施显影处理，并且实施后烘烤，而形成平均厚度为0.1μm～30μm的遮光层的步骤。

7.根据权利要求6所述的显示装置用基板的制造方法，其特征在于，所述遮光层用树脂组合物层中的光硬化性树脂为碱可溶性，所述显影处理为碱显影处理。

8.一种防反射层用树脂组合物溶液，其为含有能够形成平均厚度为0.01μm～1μm且表面粗糙度为40nm～200nm的防反射层用树脂组合物层的光硬化性树脂组合物及有机溶媒的树脂组合物溶液，并且特征在于，

所述光硬化性树脂组合物含有：相对于树脂组合物整体，为5质量％～95质量％的折射率为1.2～1.8、平均粒径为25nm～300nm且能够分散于所述有机溶媒中的无机填料；相对于树脂组合物整体，为1.54质量％～95质量％的光硬化性透明树脂；相对于所述光硬化性透明树脂与光聚合性单体的合计量，为0质量％～50质量％的光聚合性单体；以及相对于所述光硬化性透明树脂与所述光聚合性单体的合计量100质量份，为0质量份～30质量份的光聚合引发剂，并且

相对于所述光硬化性树脂组合物与所述有机溶媒的合计量，所述有机溶媒的含量为80质量％～99.9质量％，

溶液粘度为1mPa·sec～4mPa·sec。

9.一种防反射层用树脂组合物溶液，其为含有能够形成平均厚度为0.01μm～1μm且表面粗糙度为40nm～200nm的防反射层的热硬化性树脂组合物及有机溶媒的树脂组合物溶液，并且特征在于，

所述热硬化性树脂组合物含有：相对于树脂组合物整体，为5质量％～95质量％的折射率为1.2～1.8、平均粒径为25nm～300nm且能够分散于所述有机溶媒中的无机填料；相对于树脂组合物整体，为3.2质量％～94.06质量％的热硬化性透明树脂与热硬化性单体中的至少一种；以及相对于所述热硬化性透明树脂与所述热硬化性单体的合计量100质量份，为1质量份～25质量份的热硬化剂，并且

相对于所述防反射层用树脂组合物与所述有机溶媒的合计量，所述有机溶媒的含量为80质量％～99.9质量％，

溶液粘度为1mPa·sec～4mPa·sec。