[发明专利]一种紫外光电器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201911257509.3 申请日: 2019-12-10
公开(公告)号: CN111063750B 公开(公告)日: 2021-07-27
发明(设计)人: 何晨光;赵维;吴华龙;陈志涛;张康;贺龙飞;刘云洲;廖乾光 申请(专利权)人: 广东省半导体产业技术研究院
主分类号: H01L31/0236 分类号: H01L31/0236;H01L31/0352;H01L31/103;H01L31/18
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 李梦宁
地址: 510000 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 紫外 光电 器件 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种紫外光电器件,其特征在于,所述紫外光电器件包括衬底(110)以及在所述衬底(110)上依次生长的基板(120)、n型AlGaN层(130)、有源区(140)和p型AlGaN层(150);所述p型AlGaN层(150)包括第一本体(170)和位于所述第一本体(170)的顶面的第一台阶(180),相邻两个所述第一台阶(180)之间的落差距离L大于单原子层的厚度,所述第一台阶(180)的顶面相对于所述衬底(110)的底面的倾角a的范围为:0.5°~6°,所述衬底(110)包括第二本体(190)和位于所述第二本体(190)的顶面的第二台阶(200),所述第二台阶(200)通过所述基板(120)、所述n型AlGaN层(130)、所述有源区(140)依次传承,形成所述第一台阶(180),所述第二台阶(200)的顶面相对于所述衬底(110)的底面的倾角的范围为:0.5°~6°。

2.根据权利要求1所述的紫外光电器件,其特征在于,所述第二台阶(200)的顶面相对于所述衬底(110)的底面的倾角的范围为:1°~2°。

3.一种紫外光电器件的制备方法,其特征在于,所述方法包括:

在衬底(110)上依次生长的基板(120)、n型AlGaN层(130)、有源区(140)和p型AlGaN层(150);其中,所述p型AlGaN层(150)包括第一本体(170)和位于所述第一本体(170)的顶面的第一台阶(180),相邻两个所述第一台阶(180)之间的落差距离L大于单原子层的厚度,所述第一台阶(180)的顶面相对于所述衬底(110)的底面的倾角a的范围为:0.5°~6°,所述衬底(110)包括第二本体(190)和位于所述第二本体(190)的顶面的第二台阶(200),所述第二台阶(200)通过所述基板(120)、所述n型AlGaN层(130)、所述有源区(140)依次传承,形成所述第一台阶(180),所述第二台阶(200)的顶面相对于所述衬底(110)的底面的倾角的范围为:0.5°~6°。

4.根据权利要求3所述的紫外光电器件的制备方法,其特征在于,所述第二台阶(200)的顶面相对于所述衬底(110)的底面的倾角的范围为:1°~2°。

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