[发明专利]气相分配控制装置以及应用该装置的隔板精馏塔

权利要求书

1.一种气相分配控制装置，其特征在于，该装置设置于隔板精馏塔的隔板下方，包括：

填料层，其用于脱除来自公共提馏段的返塔气相中的液体；

分配层，其位于所述填料层上方，该分配层中设有气相通道，该气相通道的两个独立入口根据预设的气相分配比、通过气相分配机构设置为开口尺寸可调节；该气相通道的两个相应的独立出口与通往所述隔板两侧的升气通道连通；

所述气相分配机构包括：

中空圆环，其外径与所述隔板精馏塔的塔身内径相适配并固定在所述填料层上方；该中空圆环包含弧长相等的四段，分别为L1、L2、L3以及L4段；所述L1和L3段底部设有入口镂空部，L2和L4段上部设有出口镂空部；

铁球，其数量为两个，该两个铁球与所述中空圆环内壁间隙配合并可在中空圆环内自由滑动，铁球的位置变化使得所述气相通道入口的开口尺寸可调节。

2.一种气相分配控制装置，其特征在于，该装置设置于隔板精馏塔的隔板下方，包括：

填料层，其用于脱除来自公共提馏段的返塔气相中的液体；

分配层，其位于所述填料层上方，该分配层中设有气相通道，该气相通道的两个独立入口根据预设的气相分配比、通过气相分配机构设置为开口尺寸可调节；该气相通道的两个相应的独立出口与通往所述隔板两侧的升气通道连通；

所述气相分配机构包括：

中空圆环，其外径与所述隔板精馏塔的塔身内径相适配并固定在所述填料层上方；该中空圆环包含弧长相等的四段，分别为L1、L2、L3以及L4段；所述L1和L2段底部设有入口镂空部，L3和L4段上部设有出口镂空部；

铁球，其数量为一个，该铁球与所述中空圆环内壁间隙配合并可在中空圆环内自由滑动，铁球的位置变化使得所述气相通道入口的开口尺寸可调节。

3.根据权利要求1或2所述的气相分配控制装置，其特征在于，所述气相分配机构还包括电磁分配控制部件，该电磁分配控制部件具体包含：

弧形轨道，其沿隔板精馏塔塔身外部周向设置并与所述中空圆环处在同一水平面上；

电磁控制器，其根据所述预设的气相分配比数据接收指令驱动电磁铁沿所述弧形轨道移动，移动的所述电磁铁在吸引力的作用下带动所述铁球移动至需要的位置。

4.根据权利要求3所述的气相分配控制装置，其特征在于，所述铁球为空心设置。

5.根据权利要求1或2所述的气相分配控制装置，其特征在于，所述分配层与填料层之间通过钢板分隔开，该钢板位于所述中空圆环的中间位置，且采用密封焊接方式与所述中空圆环连接。

6.根据权利要求1或2所述的气相分配控制装置，其特征在于，所述填料层底部设填料格栅，所述填料格栅的开孔率为5%~15%。

7.根据权利要求1或2所述的气相分配控制装置，其特征在于，所述升气通道的横截面积为所述隔板精馏塔横截面积的0.1至0.4倍，所述升气通道横截面的形状为矩形、正方形或圆形。

8.一种隔板精馏塔，其特征在于，应用如权利要求1至7中任意一项所述的气相分配控制装置，所述隔板精馏塔的隔板位于塔身内部中段，且竖直设置并沿所述塔身轴线延伸，所述隔板将塔内空间分隔为位于隔板上部的公共精馏段、位于隔板左侧的进料段、位于隔板右侧的出料段以及位于隔板下部的公共提馏段；所述隔板为多层中空设置。

9.根据权利要求8所述的隔板精馏塔，其特征在于，隔板中空部分填充惰性气体或绝热材料。