[发明专利]一种针状面阵成像器件有效

专利信息
申请号: 201911253975.4 申请日: 2019-12-10
公开(公告)号: CN110690239B 公开(公告)日: 2020-03-20
发明(设计)人: 尹志军;吴冰;张虞;许志城 申请(专利权)人: 南京南智先进光电集成技术研究院有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H04N5/225
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人: 逯长明;许伟群
地址: 210000 江苏省南京市江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 针状 成像 器件
【权利要求书】:

1.一种针状面阵成像器件,其特征在于,所述成像器件包括感光层、放大电路层、主干和信号引出线;

所述主干的形状为圆柱形,包括主干上端面、主干中间面、主干下端面以及主干侧壁,所述主干上端面、主干中间面、主干下端面由上至下依次设置;

所述感光层包括二维面阵和数个第一导线,所述二维面阵包括若干感光元件,所述感光元件嵌在所述主干上端面上;

所述第一导线设置在所述主干的表面上,所述第一导线的一端与所述感光元件连接,所述第一导线的另一端设置在所述主干侧壁与主干中间面的连接处;

所述放大电路层包括放大电路和数个第二导线,所述放大电路嵌在所述主干中间面上,且与所述二维面阵平行设置;所述第二导线设置在所述主干中间面、主干侧壁和主干下端面上,在主干侧壁上设置的第一导线和第二导线的位置相对应,所述第二导线的一端与放大电路连接;所述信号引出线与所述主干下端面垂直连接,所述第二导线的另一端与所述信号引出线连接。

2.根据权利要求1所述的一种针状面阵成像器件,其特征在于,所述成像器件还包括保护层,所述保护层为空心圆柱体,所述感光层、放大电路层、主干和信号引出线设置在所述保护层的内部。

3.根据权利要求1所述的一种针状面阵成像器件,其特征在于,所述主干的材料为半导体材料。

4.根据权利要求2所述的一种针状面阵成像器件,其特征在于,所述保护层的材料为绝缘体材料。

5.根据权利要求1所述的一种针状面阵成像器件,其特征在于,所述感光元件包括金属电极、N型硅和P型衬底,所述P型衬底嵌入在所述主干上端面内,所述金属电极和N型硅在所述主干上端面上形成凸点。

6.根据权利要求1所述的一种针状面阵成像器件,其特征在于,所述感光元件包括由上至下依次连接的ITO透明电极、ZnO半导体、PDA、PSS和金属电极。

7.根据权利要求5所述的一种针状面阵成像器件,其特征在于,所述P型衬底的材料为半导体材料。

8.根据权利要求1所述的一种针状面阵成像器件,其特征在于,所述第一导线的数量与第二导线的数量相同。

9.根据权利要求5所述的一种针状面阵成像器件,其特征在于,若干所述感光元件形成M行和N列的二维面阵;每一行的感光元件由两根第一导线连接,每一列的感光元件由两根第一导线连接;所述第一导线的数量为2*(m+n),所述第二导线的数量为2*(m+n)。

10.根据权利要求9所述的一种针状面阵成像器件,其特征在于,所述信号引出线的数量为2*(m+n)。

11.根据权利要求1所述的一种针状面阵成像器件,其特征在于,所述信号引出线通过倒装焊工艺与所述第二导线连接。

12.根据权利要求1所述的一种针状面阵成像器件,其特征在于,制备第一导线或第二导线的制备方法包括:

采用光刻工艺在所述主干表面刻蚀出凹槽,在主干表面镀金属膜;

金属膜在凹槽中沉积;腐蚀清洗主干表面除凹槽的部分,去除主干表面除凹槽的部分的金属膜,确定沉积有金属膜的凹槽为第一导线或第二导线。

13.根据权利要求1所述的一种针状面阵成像器件,其特征在于,制备第一导线或第二导线的制备方法包括:

在所述主干表面上镀金属膜,采用激光微加工方式将主干表面上除第一导线或第二导线外的区域去除金属膜,得到第一导线或第二导线。

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