[发明专利]温控系统、基于温控系统的温控方法及电子设备

权利要求书

1.一种温控系统，应用于电子设备，其特征在于，所述电子设备包括多个温区，所述温控系统的架构包括：

应用框架层，用于获取当前运行的应用；

内核层，用于获取各个温区的温度；

本地框架层，用于根据所述应用和所述各个温区的温度进行温度控制。

2.根据权利要求1所述的温控系统，其特征在于，所述本地框架层包括工作线程，所述工作线程用于确定所述应用对应的应用场景，并从预设的配置文件所包括的多个温控策略中确定所述应用对应的应用场景所对应的第一温控策略，并根据所述第一温控策略和所述各个温区的温度进行温度控制，所述预设的配置文件包括多个不同的应用场景，及各应用场景对应的温控策略。

3.根据权利要求2所述的温控系统，其特征在于，所述本地框架层还包括联合线程和监视线程，所述联合线程，用于从所述应用框架层获取所述应用，并将所述应用传输至所述工作线程；

所述监视线程，用于从所述内核层获取所述各个温区的温度，并将所述各个温区的温度传输至所述工作线程。

4.根据权利要求3所述的温控系统，其特征在于，所述内核层包括温区节点，所述温区节点用于获取各个温区的温度；

所述监视线程，还用于从所述温区节点获取所述各个温区的温度，并将所述各个温区的温度传输至所述工作线程；

所述应用框架层包括温控接口，所述温控接口用于获取当前运行的应用；

所述联合线程，还用于从所述温控接口获取所述应用，并将所述应用传输至所述工作线程。

5.根据权利要求2至4任一项所述的温控系统，其特征在于，所述工作线程还用于根据所述第一温控策略从所述多个温区中确定出目标温区和所述目标温区对应的温度阈值，并在所述目标温区的温度达到所述温度阈值时进行温度控制。

6.根据权利要求5所述的温控系统，其特征在于，所述工作线程还用于在所述目标温区的温度达到所述温度阈值时，根据所述第一温控策略确定所述目标温区的目标状态；

所述本地框架层还包括外部控制模块，所述外部控制模块用于根据所述目标状态降低所述目标温区的温度。

7.根据权利要求5所述的温控系统，其特征在于，所述工作线程还用于在所述目标温区的温度达到所述温度阈值时，通过预设的算法计算所述目标温区的目标状态；

所述本地框架层还包括外部控制模块，所述外部控制模块用于根据所述目标状态降低所述目标温区的温度。

8.根据权利要求6或7所述的温控系统，其特征在于，所述外部控制模块包括降温模块，所述降温模块用于从所述工作线程获取所述目标状态，并将所述目标温区的状态从当前状态调整至所述目标状态，以降低所述目标温区的温度。

9.根据权利要求2所述的温控系统，其特征在于，所述应用框架层还用于获取所述应用对应的第二温控策略；

所述工作线程，还用于检测所述应用是否为预设的应用集合中的应用，若所述应用为预设的应用集合中的应用，则根据所述第二温控策略和所述各个温区的温度进行温度控制；

若所述应用不为预设的应用集合中的应用，则根据所述第一温控策略和所述各个温区的温度进行温度控制。

10.一种基于温控系统的温控方法，应用于电子设备，其特征在于，所述电子设备包括多个温区，所述温控系统的架构包括应用框架层、内核层和本地框架层，包括：

在所述应用框架层获取当前运行的应用；

在所述内核层获取各个温区的温度；

在所述本地框架层根据所述应用和所述各个温区的温度进行温度控制。