[发明专利]芳香族聚噁二唑薄膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201911250628.6 申请日: 2019-12-09
公开(公告)号: CN110894291B 公开(公告)日: 2023-06-23
发明(设计)人: 张再兴;林红卫;乔志勇;李文涛;舒友;胡扬剑 申请(专利权)人: 怀化学院
主分类号: C08G73/08 分类号: C08G73/08;C08J5/18;C08L79/06
代理公司: 华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 戴志攀
地址: 418000 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 芳香族 聚噁二唑 薄膜 及其 制备 方法
【说明书】:

发明涉及一种芳香族聚噁二唑薄膜及其制备方法,包括以下步骤:以芳香族二甲酸化合物和肼盐为单体,在发烟硫酸中进行缩聚反应得到芳香族聚噁二唑溶液;将所述芳香族聚噁二唑溶液经衣架式流延模具挤出,然后输送至稀硫酸凝固浴中进行凝固成型,得到凝固的含酸湿态初生流延薄膜;将所述含酸湿态初生流延薄膜进行洗涤后,得到不含硫酸的初生流延薄膜;将所述不含硫酸的初生流延薄膜进行张紧干燥,在200~350℃进行热定型处理,并进行切边、卷绕,得到所述芳香族聚噁二唑薄膜。该芳香族聚噁二唑薄膜可广泛用作耐高温电绝缘薄膜、耐高温绝缘纸/薄膜复合材料、覆铜薄膜、耐高温渗透膜、碳膜基材及航空航天材料等。

技术领域

本发明涉及薄膜制备技术领域,特别是涉及一种芳香族聚噁二唑薄膜及其制备方法。

背景技术

芳香族聚噁二唑(简称POD)是一种具备良好的电绝缘、耐热、耐氧化、等性能的芳杂环高分子材料,不溶于一般有机溶剂和绝大多数无机溶剂,高温下只分解不熔融,因而在耐高温、电绝缘等领域有着广阔的应用前景。但因其合成条件苛刻、流动性能差、加工成型性差,故POD高聚物的合成、薄膜、纤维等材料成型加工方面的研发成果相对较少,尤其是薄膜成型加工方面的成果更为稀少。

20世纪60年代,美国科学家最先发起芳香族聚噁二唑的制备、结构与性能的研究,其后,POD高聚物因其良好的性能受到较多关注。POD的制备一般采用两步法,即先合成出聚酰肼,加工成型后高温脱水环化成为POD材料。这种方法不仅技术路线复杂、原料成本高,而且,材料结构缺陷多、力学性能差。现阶段,二步法主要限于实验室研究,用于制备光电材料等,但关于使用POD制备耐高温、功能性薄膜的文献未见报道。

发明内容

基于此,有必要提供一种性能更好的芳香族聚噁二唑薄膜的制备方法。

一种芳香族聚噁二唑薄膜的制备方法,包括以下步骤:

以芳香族二甲酸化合物和肼盐为单体,在发烟硫酸中进行缩聚反应得到芳香族聚噁二唑溶液;

将所述芳香族聚噁二唑溶液经衣架式流延模具挤出,然后输送至稀硫酸凝固浴中进行凝固成型,得到凝固的含酸湿态初生流延薄膜;所述衣架式流延模具挤出的工艺为:将所述芳香族聚噁二唑溶液经高效真空脱泡,然后输送至粗过滤器进行粗过滤,再输送至精过滤器进行精过滤,再送至衣架式模具,在模具狭缝中挤出至凝固托辊上形成片状聚噁二唑溶液;

将所述含酸湿态初生流延薄膜进行洗涤后,得到不含硫酸的初生流延薄膜;

将所述不含硫酸的初生流延薄膜进行张紧干燥,在200~350℃进行热定型处理,并进行切边、卷绕,得到所述芳香族聚噁二唑薄膜。

在其中一个实施例中,所述粗过滤器的过滤网孔径为40μm~80μm,过滤压力≤1.0MPa,所述精过滤器的过滤网孔径为30μm~50μm,过滤压力≤3.0MPa。

在其中一个实施例中,所述稀硫酸凝固浴中稀硫酸的质量浓度为20%~50%,所述稀硫酸凝固浴中稀硫酸的温度为20℃~60℃。

在其中一个实施例中,所述稀硫酸凝固浴中稀硫酸的质量浓度为40%~45%,所述稀硫酸凝固浴中稀硫酸的温度为40℃~50℃。

在其中一个实施例中,在所述洗涤的步骤之前还包括以下步骤:将所述含酸湿态初生流延薄膜进行湿态热浴塑化,然后进行单向或双向拉伸。

在其中一个实施例中,所述单向或双向拉伸的工艺为:将所述含酸湿态初生流延薄膜在单向拉伸设备中进行1.1~4倍的单向拉伸或在双向拉伸设备中进行1.1~3倍的双向拉伸,拉伸温度为40℃~50℃。

在其中一个实施例中,所述衣架式模具的流道内表面的粗糙度为Ra≤0.8μm。

在其中一个实施例中,所述衣架式模具的材质为904不锈钢、904L不锈钢、哈氏B-2合金或哈氏C-276合金。

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