[发明专利]一种曝光调节方法、装置、电子设备及其存储介质

权利要求书

1.一种曝光调节方法，其特征在于，所述方法包括：

通过色温传感器采集当前环境中的至少两个光源频率和所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度；所述光源频率对应的频率强度通过对所述色温传感器的电信号的采样信号进行时频转换得到；

根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度，从所述至少两个光源频率中选择目标光源频率；

获取所述目标光源频率对应的目标曝光参数，并通过所述目标曝光参数进行曝光处理；其中，所述目标曝光参数包括目标曝光时间，当存在至少两个目标光源频率，所述目标曝光时间为各目标光源频率对应的光源周期的最小公倍数的整数倍，当仅存在一个目标光源频率，所述目标曝光时间为所述目标光源频率对应的光源周期的整数倍。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述通过色温传感器采集当前环境中的至少两个光源频率和所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度，包括：

通过所述色温传感器感应当前空间环境中的环境光，得到电信号；

通过指定的采样频率对所述电信号进行采样，得到采样信号；

对所述采样信号进行时频转换，得到至少两个光源频率和所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度，从所述至少两个光源频率中选择目标光源频率，包括：

根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度确定各光源频率对应的稳定程度；

将对应的稳定程度满足稳定性条件的光源频率确定为所述目标光源频率。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度确定各光源频率对应的稳定程度，包括：

对于所述至少两个光源频率中各光源频率进行以下处理：

确定所述光源频率对应的第一指定次数的频率强度的方差，得到所述光源频率对应的稳定程度。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述稳定性条件包括：小于指定阈值；所述将对应的稳定程度满足稳定性条件的光源频率确定为所述目标光源频率，包括：

将对应的方差小于所述指定阈值的光源频率确定为所述目标光源频率。

6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度确定各光源频率对应的稳定程度，包括：

对于所述至少两个光源频率中各光源频率进行以下处理：

确定所述光源频率对应的第二指定次数的频率强度中，频率强度大于指定强度阈值的目标次数；

确定所述目标次数与所述第二指定次数的比值。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述稳定性条件包括：大于指定比值；所述将对应的稳定程度满足稳定性条件的光源频率确定为所述目标光源频率，包括：

将对应的比值大于所述指定比值的光源频率确定为所述目标光源频率。

8.根据权利要求1至7任一项所述的方法，其特征在于，在根据所述至少两个光源频率中各光源频率对应的频率强度，从所述至少两个光源频率中选择目标光源频率之前，所述方法还包括：

根据频率强度从大到小的顺序对所述至少两个光源频率进行排序；

根据所述排序结果，将所述至少两个光源频率中，位于指定次序以外的光源频率从所述至少两个光源频率中筛除。

9.根据权利要求1至7任一项所述的方法，其特征在于，所述目标曝光参数包括：目标曝光时间；当存在至少两个目标光源频率，所述获取所述目标光源频率对应的目标曝光参数，包括：

获取所述至少两个目标光源频率中各目标光源频率对应的光源周期；

将各目标光源频率对应的所述光源周期的最小公倍数的整数倍确定为所述目标曝光时间。