[发明专利]一种单晶元四场接收器及其生产工艺在审
| 申请号： | 201911237561.2 | 申请日： | 2019-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN110793554A | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 广东光栅数显技术有限公司 |
| 主分类号： | G01D5/26 | 分类号： | G01D5/26;G03F7/00 |
| 代理公司： | 44473 广东腾锐律师事务所 | 代理人： | 莫锡斌 |
| 地址： | 523000 广东省东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 硅光 晶片 灌封胶 光刻栅 列排列 一次性成型 检测位移 组装工艺 接收器 防尘 方框形 信号源 产能 单晶 防震 覆盖 填充 防水 生产 | ||
1.一种单晶元四场接收器，其特征在于：包括底PCB板、表PCB板、硅光晶片和灌封胶，底PCB板上安装表PCB板、硅光晶片，表PCB板为方框形，硅光晶片位于表PCB板内，表PCB板内填充灌封胶，灌封胶覆盖硅光晶片，硅光晶片中部设有4个呈2行2列排列的光刻栅片。
2.根据权利要求1所述的一种单晶元四场接收器，其特征在于：上行与下行光刻栅片的行距为300μm，左列与右列光刻栅片的列距为315μm。
3.根据权利要求1所述的一种单晶元四场接收器，其特征在于：所述表PCB板外侧到PCB板外侧的距离为1.2mm。
4.根据权利要求1所述的一种单晶元四场接收器，其特征在于：所述光刻栅片的长度为2mm、宽度为0.95mm。
5.一种单晶元四场接收器生产工艺，其特征在于：包括以下步骤，
①选材，选取尺寸大小合适的硅光晶片，硅光晶片表面涂覆有光刻胶；
②曝光，将预制在掩模版上的与光刻栅片相配的图形初步转印到光刻胶上；
③显影，溶解光刻胶中非曝光部分的图形使光刻栅片图形初步显示出来；
④定影，按步骤③显影出的图形一次性定型出呈2行2列排列的光刻栅片，上行与下行光刻栅片的行距为300μm，左列与右列光刻栅片的列距为315μm。
6.根据权利要求5所述的一种单晶元四场接收器生产工艺，其特征在于：在完成定影后，对硅光晶片进行精度测量若发现有缺陷则修补后再清洗；若无缺陷则直接清洗，之后将硅光晶片、表PCB板贴装到底PCB板上，表PCB板内填充灌封胶，灌封胶覆盖硅光晶片。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东光栅数显技术有限公司，未经广东光栅数显技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911237561.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：零点定位方法、系统、伺服电机及存储介质
- 下一篇：轴端齿形光电位置传感器
