[发明专利]一种气相沉积炉内气体悬浮装置在审
申请号: | 201911233422.2 | 申请日: | 2019-12-05 |
公开(公告)号: | CN110760820A | 公开(公告)日: | 2020-02-07 |
发明(设计)人: | 黄洪福;蓝图;袁永红;雷宏涛 | 申请(专利权)人: | 深圳市志橙半导体材料有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 44451 深圳市添源知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 罗志伟 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分气孔 主进气孔 出气孔 石墨盘 底座 气体流动阻力 气体悬浮装置 薄膜均匀性 平行设置 气体流量 使用周期 同一位置 悬浮效果 旋转配合 旋转气体 延长装置 沉积炉 分出 连通 转动 悬浮 交汇 保证 | ||
1.一种气相沉积炉内气体悬浮装置,包括平行设置并且旋转配合的石墨盘和底座,其特征在于:所述底座上设有主进气孔、第一分气孔、第二分气孔、第一倾斜出气孔和第二倾斜出气孔,所述第一分气孔、第二分气孔分别位于所述主进气孔的两侧,所述第一分气孔、第二分气孔分别与所述主进气孔交汇连通于同一点,所述第一分气孔与所述第一倾斜出气孔连接,所述第二分气孔与所述第二倾斜出气孔连接,所述主进气孔、第一分气孔、第一倾斜出气孔连通形成第一气道,所述主进气孔、第二分气孔、第二倾斜出气孔连通形成第二气道,所述第一气道、第二气道用于产生旋转气体,推动所述石墨盘悬浮并转动。
2.根据权利要求1所述的气相沉积炉内气体悬浮装置,其特征在于:所述第一分气孔、第二分气孔的轴线相重合,所述第一分气孔、第二分气孔分别垂直于所述主进气孔。
3.根据权利要求1所述的气相沉积炉内气体悬浮装置,其特征在于:所述主进气孔、第一分气孔、第二分气孔的轴线均平行于水平面,所述第一倾斜出气孔、第二倾斜出气孔的轴线均与水平面成锐角。
4.根据权利要求1所述的气相沉积炉内气体悬浮装置,其特征在于:所述第一倾斜出气孔、第二倾斜出气孔对称设置。
5.根据权利要求1所述的气相沉积炉内气体悬浮装置,其特征在于:所述第一倾斜出气孔、第二倾斜出气孔的表面均覆盖有碳化硅涂层。
6.根据权利要求1所述的气相沉积炉内气体悬浮装置,其特征在于:所述底座上设有气道镶块,所述第一分气孔、第二分气孔、第一倾斜出气孔、第二倾斜出气孔均位于所述气道镶块之内,所述底座与所述气道镶块为密封配合。
7.根据权利要求1所述的气相沉积炉内气体悬浮装置,其特征在于:所述石墨盘贴合所述底座的底面上设有与所述第一倾斜出气孔、第二倾斜出气孔相对应的旋转气槽,所述第一倾斜出气孔、第二倾斜出气孔射出的倾斜气体进入所述旋转气槽产生旋转气体,推动所述石墨盘悬浮并转动。
8.根据权利要求7所述的气相沉积炉内气体悬浮装置,其特征在于:所述旋转气槽有多道并沿所述石墨盘的周向间隔均匀设置,所述旋转气槽自所述石墨盘的中心向外延伸,所述旋转气槽与所述石墨盘的径向呈锐角。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的