[发明专利]一种正弦压力发生方法有效
申请号: | 201911212906.9 | 申请日: | 2019-12-02 |
公开(公告)号: | CN111220325B | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
发明(设计)人: | 王辰辰;李峰;蔡菁;王洪博;史博 | 申请(专利权)人: | 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所 |
主分类号: | G01L27/00 | 分类号: | G01L27/00 |
代理公司: | 北京正阳理工知识产权代理事务所(普通合伙) 11639 | 代理人: | 张利萍 |
地址: | 100095*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 正弦 压力 发生 方法 | ||
本发明涉及一种正弦压力发生方法,属于试验技术领域。本发明涉及一种基于压力弹性薄膜的正弦压力发生技术,通过为压力弹性薄膜施加不同的压力脉动激励,使压力弹性薄膜按正弦方式产生形变,进而在压力室内部产生正弦变化的脉动压力,压力室初始状态可为正压或负压状态,压力介质可以为气体或液体,该方法可在不同静态压力(包括负压、正压)条件下产生正弦脉动压力;压力介质可以为任意气体或液体,而无需考虑激励压力为何种介质;激励压力介质与正弦脉动压力通过压力弹性薄膜隔离,保证了压力传感器实验介质与使用介质相同;可使用任意一种脉动压力发生装置驱动压力弹性薄膜,满足了不同条件对正弦压力脉动的需求。
技术领域
本发明涉及一种正弦压力发生方法,特别涉及一种基于压力弹性薄膜的可变静压条件可变压力介质的正弦脉动压力发生方法,属于动态压力校准领域。
背景技术
正弦压力校准装置用于压力传感器幅频特性的测试与校准,正弦压力发生装置作为正弦压力校准装置的核心部分,用于产生一定频率和压力幅值的正弦压力脉动。现有正弦压力发生装置按其发生原理可以分为调制式正弦压力发生装置、活塞式正弦压力发生装置及谐振式正弦压力发生装置等。调制式正弦压力发生方法可以产生频率较高的正弦压力,但压力平均值和压力幅值无法调节,且无法在负压条件下产生脉动压力;活塞式正弦压力发生方法的压力幅值和平均值虽可以调节,但其频率较低,且因驱动源功率等限制压力平均值较低;谐振式正弦压力发生方法压力介质只能为气体或液体,在同一个发生装置上无法实现压力介质的转换,且其压力平均值较低。随着动态压力测试与校准需求增加,需要一种即可以在负压条件,也可以在高静压条件下,且压力介质既可以为液体也可以为气体的正弦压力发生方法,来完成高静压、小动压和需要压力介质隔离的动态压力校准。
发明内容
本发明的目的是提供一种基于压力弹性薄膜的正弦压力发生方法,通过现有的正弦压力发生装置如调制式压力发生装置、活塞式正弦压力发生装置或谐振式正弦压力发生装置产生的正弦压力,驱动压力弹性薄膜,使压力弹性薄膜按正弦方式产生形变,进而在压力室内部产生正弦变化的脉动压力,压力室初始状态可为正压或负压状态,压力介质可以为气体或液体,基于此种方法制作的正弦压力校准装置可以对各种不同用途的压力传感器进行校准或/和检定。
本发明的目的是通过下述技术方案实现的:
一种正弦压力发生方法,通过弹性薄膜将驱动介质和试验介质隔离开,在弹性薄膜外侧的驱动介质以正弦方式发生变化,使弹性薄膜发生相应的形变,进而使压力腔体内部产生正弦压力脉动。可以实现压力腔体内部正负压预压、气体介质改变等试验条件。
实现上述方法的装置,包括:加压口、入口开关、压力室、静态压力传感器、出口开关、泄压口和弹性薄膜。其中利用已有的正弦压力发生方式作为激励源为所述弹性薄膜提供正弦压力脉动,所述激励源可以是调制式正弦压力、气缸—活塞式正弦压力或谐振式正弦压力。所述弹性薄膜在正弦脉动激励下,产生周期性微小形变,使所述压力室内压力产生与所述激励源相同频率的微小脉动压力。所述加压口一侧与压力源连接,所述压力源可以为正压或负压,压力介质可以为气体或液体。另一侧与所述入口开关连接,所述入口开关处于打开状态时,所述压力室内部压力增加/减小,所述静态压力传感器安装于所述压力室侧壁,用于监控所述压力室内部初始压力。所述出口开关与所述泄压口连接,用于调节所述压力室内部压力或/和用于实验接收后的泄压。所述正弦压力激励源幅值变化可在一定程度上改变所述压力室内部正弦脉动压力幅值。所述弹性薄膜一方面可以通过变形在所述压力室内部产生正弦压力,另一方面可以将隔离激励源介质与压力传感器感压面接触介质隔离。
有益效果
本发明的一种正弦压力发生方法,可在不同静态压力(包括负压、正压)条件下产生正弦脉动压力;压力介质可以为任意气体或液体,而无需考虑激励压力为何种介质;激励压力介质与正弦脉动压力通过压力弹性薄膜隔离,保证了压力传感器实验介质与使用介质相同;可使用任意一种脉动压力发生装置驱动压力弹性薄膜,满足了不同条件下对正弦压力脉动的需求。
附图说明
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