[发明专利]用于EUV真空环境中的光传输装置及光刻机

说明书

一种用于EUV真空环境中的光传输装置及光刻机，用于EUV真空环境中的光传输装置包括：光纤连接器，设置通孔；通光介质，设置于所述光纤连接器的通孔内；两光纤束，分别连接于所述光纤连接器的两侧，且两所述光纤束分别与所述通光介质的中心对准，实现分段的光纤束之间的光的传输。本发明设计两段光纤束来解决整根光纤束不利于装配、维护以及存在断纤的风险的问题；通过光纤连接器以及光纤连接器上设置的通光介质实现两段光纤束的导通，连接方式可靠，并且应用于EUV光刻机中，解决了真空腔内外光传输的问题，提高了光纤束与光刻机的连接可靠性，降低了维修风险。

技术领域

本发明属于半导体装备技术领域，尤其涉及一种用于EUV真空环境中的光传输装置及光刻机。

背景技术

EUV光刻机是目前半导体行业最先进的、已进入量产机型的光刻机。但由于空气及几乎所有的材料均对EUV光都具有强烈的吸收作用，导致EUV光刻机内部工作环境必须是EUV(超)清洁真空，EUV光刻机所有零部件的设计必须考虑材料及加工工艺流程可能引入的材料和结构的放气问题。EUV光刻机内部有多种光学传感器，对光刻机内的部件及环境进行测试，因此不可避免的会将光学传感器置于真空环境中，而光学传感器的光源由于污染、散热等原因不适合放置于真空环境中，这时需要合适的光传输装置将真空腔外的光传输进入真空腔内供给传感器工作。

由于EUV光刻机内的部件或模组所需光纤不会是1根，会有单个部件就需要多光纤构成的光纤束来实现照明的需求。因此多光纤构成的光纤束穿过真空腔体是一个必须解决的问题。

传统的穿过真空腔体的光纤束组件均采用整束光纤粘结在真空法兰上的方式。这种方式不适用于EUV光刻机，因为EUV光刻机对工作环境的要求极为严苛，而胶会带来碳氢化合物等污染，同时粘胶处需要保证漏率指标的满足，胶层还需要承受1个大气压的压力，对胶及粘胶工艺均提出了较高的要求；整根光纤束不利于装配和维护，还会存在意外断纤的风险。EUV光刻机这种高端半导体装备具有极高的可靠性要求，光刻机的停机维护会给客户带来巨大的成本损失。

发明内容

有鉴于此，本发明的主要目的在于提供一种用于EUV真空环境中的光传输装置及光刻机，以期至少部分地解决上述提及的技术问题的其中之一。

作为本发明的一个方面，提供了一种用于EUV真空环境中的光传输装置，包括：

光纤连接器，设置通孔；

通光介质，设置于所述光纤连接器的通孔内；

两光纤束，分别连接于所述光纤连接器的两侧，且两所述光纤束分别与所述通光介质的中心对准，实现分段的光纤束之间的光的传输。

作为本发明的另一个方面，还提供了一种EUV光刻机，包括：

如上述的用于EUV真空环境中的光传输装置；

真空腔，包括真空腔壁，在所述真空腔壁上设置光纤穿孔；所述用于EUV真空环境中的光传输装置的光纤连接器设置于所述真空腔对应所述光纤穿孔的外侧，所述光纤连接器与所述真空腔壁连接；

其中，与所述光纤连接器相连的一所述光纤束通过光纤穿孔延伸至所述真空腔内，实现所述真空腔内外侧的光的传输。

基于上述技术方案，本发明相对于现有技术至少具有以下有益效果的其中之一或其中一部分：

本发明设计两段光纤束来解决整根光纤束不利于装配、维护以及存在断纤的风险的问题；通过光纤连接器以及光纤连接器上设置的通光介质实现两段光纤束的导通，连接方式可靠；

本发明将用于EUV真空环境中的光传输装置应用于EUV光刻机中，本发明设计的EUV光刻机，通过两段光纤束、光纤连接器和通光介质解决了真空腔内外光传输的问题，提高了光纤束与光刻机的连接可靠性，降低了维修风险；