[发明专利]基于碳化硅材料的压阻式加速度传感器的制造方法有效

专利信息
申请号: 201911212178.1 申请日: 2019-12-02
公开(公告)号: CN110780090B 公开(公告)日: 2021-06-18
发明(设计)人: 徐天彤;陶智;李海旺;翟彦欣;桂英轩;曹晓达 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: G01P15/12 分类号: G01P15/12;B81C1/00
代理公司: 北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙) 11531 代理人: 于鹏
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 基于 碳化硅 材料 压阻式 加速度 传感器 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种基于碳化硅材料的压阻式加速度传感器的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:

通过正面干法刻蚀机对SiC晶片外延层进行电阻光刻刻蚀,并形成电阻图形;

使用SiO2保护隔离件,并在预设位置刻蚀窗口完成介质孔光刻操作;

将元器件镂空部分的通过正面深槽光刻方式正面刻蚀预设深度,并通过预设深度控制电阻条所在的悬臂梁位置厚度;

在所述电阻条SiO2窗口位置通过lift-off工艺形成欧姆接触;

通过金属布线光刻方法将元器件做成pad,并与所述欧姆接触形成金属互联;

对所述金属互联部分依次通过清洗操作、正面匀胶操作、正面键合操作完成背面减薄;

再对经过处理的所述金属互联部分依次通过溅射操作、光刻操作、显影操作、坚膜操作、打底膜操作、腐蚀金属操作、刻蚀操作完成背孔光刻操作;

还包括:制备碳化硅的掩膜版;

还包括:对所述金属互联部分依次通过清洗操作、正面匀胶操作、正面键合操作完成背面减薄的次数为两次。

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