[发明专利]有机发光显示面板及制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201911198051.9 申请日: 2019-11-29
公开(公告)号: CN110880562B 公开(公告)日: 2022-06-07
发明(设计)人: 闫光;王玲;林奕呈;尤娟娟;孙力 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/52;H01L27/32
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 尚伟净
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 有机 发光 显示 面板 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种制作有机发光显示面板的方法,其特征在于,包括:

提供背板;

提供盖板,提供所述盖板进一步包括:提供衬底,所述衬底上具有坝胶区域以及被所述坝胶区域限定出的填充胶区域;在所述衬底的一侧形成遮光结构预制体,所述遮光结构预制体在所述衬底上限定出多个出光单元;在所述出光单元中形成滤光层预制体;所述遮光结构预制体包括第一遮光预制体和第二遮光预制体,所述第一遮光预制体在所述填充胶固化光波段的光透过率不小于60%,所述第二遮光预制体对除所述填充胶固化光之外的光线的光透过率不大于5%;

将所述背板和所述盖板对盒设置,并将填充胶填充在所述背板和所述盖板之间,所述填充胶在所述盖板上的正投影位于所述填充胶区域中;

利用所述填充胶固化光从所述盖板的一侧照射所述填充胶,令所述填充胶固化;

对所述遮光结构预制体以及所述滤光层预制体的至少之一进行敏化处理,以便形成遮光结构和滤光层,所述遮光结构和所述滤光层在所述填充胶固化光波段的光透过率均不大于5%。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述填充胶固化光的波长范围为340-530nm。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,

所述敏化处理包括:对所述第一遮光预制体进行所述敏化处理,以便形成第一遮光结构,所述第一遮光结构对所述填充胶固化光波段的光透过率不大于5%,其中,

形成所述第一遮光预制体的材料包括具有不可逆变色效应的磁致变色材料、热致变色材料以及光致变色材料的至少之一。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述滤光层预制体包括能透过第一颜色的第一滤光膜预制体,所述第一滤光膜预制体在所述填充胶固化光的波段的光透过率不小于60%,所述第一滤光膜预制体对除所述填充胶固化光和所述第一颜色之外的光线的光透过率不大于5%;

所述敏化处理包括:对所述第一滤光膜预制体进行所述敏化处理,以便形成第一滤光膜,所述第一滤光膜对所述填充胶固化光的波段的光透过率不大于5%。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述第一滤光膜预制体包括红色滤光膜预制体、绿色滤光膜预制体和蓝色滤光膜预制体的至少之一。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述遮光结构预制体包括层叠设置的红色色阻单元、绿色色阻单元和蓝色色阻单元,形成所述红色色阻单元的材料和形成所述红色滤光膜预制体的材料相同,形成所述绿色色阻单元的材料和形成所述绿色滤光膜预制体的材料相同,形成所述蓝色色阻单元的材料和形成所述蓝色滤光膜预制体的材料相同;

所述敏化处理包括:对所述第一滤光膜预制体和所述遮光结构预制体进行所述敏化处理。

7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述敏化处理包括:磁辐射处理、光照辐射处理以及热处理的至少之一。

8.一种有机发光显示面板,其特征在于,包括:

相对设置的背板和盖板,所述背板和所述盖板之间填充有填充胶,其中,所述盖板包括:

衬底,所述衬底上具有坝胶区域以及被所述坝胶区域限定出的填充胶区域;

遮光结构,所述遮光结构设置在所述衬底的一侧,所述遮光结构在所述衬底上限定出多个出光单元;

滤光层,所述滤光层设置在所述出光单元中,其中,所述遮光结构和所述滤光层的至少之一是由遮光结构预制体以及滤光层预制体的至少之一通过敏化处理形成的,

在所述敏化处理之前,所述遮光结构预制体包括第一遮光预制体和第二遮光预制体,所述第一遮光预制体在所述填充胶固化光波段的光透过率不小于60%,所述第二遮光预制体对除所述填充胶固化光之外的光线的光透过率不大于5%;

在所述敏化处理之后,所述遮光结构和所述滤光层在所述填充胶固化光波段的光透过率均不大于5%。

9.根据权利要求8所述的有机发光显示面板,其特征在于,形成所述遮光结构的材料包括具有不可逆变色效应的磁致变色材料、热致变色材料以及光致变色材料的至少之一。

10.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括权利要求1-7任一项所述的方法所制作的有机发光显示面板,或者包括权利要求8或9所述的有机发光显示面板。

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