[发明专利]光学防伪元件及防伪产品

权利要求书

1.一种光学防伪元件，其特征在于，包括：

基材，该基材包括相互对立的第一表面和第二表面；

形成在所述基材的所述第一表面的至少一部分上的表面微结构，至少部分所述表面微结构包括多个聚焦单元，其中，每个所述聚焦单元构成第一全视差动态图像，并且所述多个聚焦单元构成第二全视差动态图像，

所述表面微结构被定义成当光束以一入射角照射所述表面微结构时，该光束中一波长或波长范围的光在反射光方向上干涉相长和/或等离子体吸收，从而使得所述聚焦单元具有颜色特征。

2.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述聚焦单元的形式选择为衍射透镜、菲涅尔透镜和/或菲涅尔浮雕结构，其截面可以为二元结构、谐衍射结构和/或锯齿形结构。

3.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述聚焦单元的形式选择为全视差图像结构，其截面可以为二元结构、谐衍射结构和/或锯齿形结构。

4.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述聚焦单元的背景区域的形状为以下一者或多者：圆形、椭圆形、方形、多边形和/或异形。

5.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，其中当所述聚焦单元的截面为二元菲涅尔透镜、衍射透镜、菲涅尔浮雕和/或二元全视差图像结构时，通过定义所述聚焦单元的特征尺寸、深度和/或微结构形貌来定义所述聚焦单元的颜色特征。

6.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述聚焦单元包括采用修饰或叠加的方式形成二元结构，其中通过定义所述二元结构的特征尺寸、深度和/或微结构形貌来定义所述聚焦单元的颜色特征。

7.根据权利要求5或6所述的光学防伪元件，其特征在于，至少一个维度上的所述特征尺寸为0.3μm-6μm；

所述深度为100nm-5μm；和/或

所述微结构形貌为凸起部分的面积占总面积的20％-80％。

8.根据权利要求7所述的光学防伪元件，其特征在于，

至少一个维度上的所述特征尺寸为0.6μm-3μm；

所述深度为200nm-3μm；和/或

所述微结构形貌为凸起部分的面积占总面积的35％-65％。

9.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述聚焦单元的形式选择为等离子体吸收结构，和/或所述聚焦单元包括采用修饰或叠加的方式形成的等离子体吸收结构。

10.根据权利要求9所述的光学防伪元件，其特征在于，所述等离子吸收结构或所述采用修饰或叠加的方式形成的等离子体吸收结构的周期或特征尺寸小于500nm，且深度小于500nm。

11.根据权利要求9或10所述的光学防伪元件，其特征在于，所述等离子吸收结构或所述采用修饰或叠加的方式形成的等离子体吸收结构的截面为锯齿形、正弦型、矩形、和/或曲面型。

12.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述光学防伪元件还包括：

覆盖于所述表面微结构上的单层或多层镀层。

13.根据权利要求12所述的光学防伪元件，其特征在于，所述单层或多层镀层中至少一层被图案化地镂空。

14.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述表面微结构还包括衍射全息微结构或非衍射表面微结构。

15.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述光学防伪元件还包括以下一者或多者：导电层；磁性层；由具有红外特征、紫外特征或偏振特性的材料组成的层。

16.一种具有根据权利要求1至15中任一项所述的光学防伪元件的防伪产品。