[发明专利]一种用于非晶纳米晶制造的加热装置

权利要求书

1.一种用于非晶纳米晶制造的加热装置，包括工作台，其特征在于：所述工作台上设有上箱体和可水平移动的下箱体，所述上箱体的内部设有发热件，所述上箱体的底部和下箱体的顶部均形成为敞口，其中，

所述上箱体的下方的前内壁、后内壁、右内壁以及左外壁上均设有凸起部，所述上箱体的敞口的左侧设有入口，所述左外壁上的凸起部设在入口的上方；

所述下箱体的上方的前外壁、后外壁、右外壁以及左内壁上均设有配合部，所述下箱体被构造成当所述下箱体水平移动后可通过入口进入上箱体内，此时所述下箱体的配合部可与上箱体的凸起部相配合。

2.根据权利要求1所述的一种用于非晶纳米晶制造的加热装置，其特征在于：所述凸起部包括自上而下间隔开的第一凸部和第二凸部、与第一凸部相连的第一凹槽、连接第二凸部的第二凹槽，其中所述第一凸部和第二凸部均上端形成为平直面且底部形成为倾斜面。

3.根据权利要求1所述的一种用于非晶纳米晶制造的加热装置，其特征在于：所述第一凸部和第二凸部距离上箱体的内侧壁或外侧壁的距离依次增加。

4.根据权利要求1所述的一种用于非晶纳米晶制造的加热装置，其特征在于：所述上箱体和下箱体在工作台设为两组，所述上箱体均连接在工作台上，所述工作台上设有驱动机构，所述驱动机构驱动两个下箱体水平移动。

5.根据权利要求4所述的一种用于非晶纳米晶制造的加热装置，其特征在于：所述驱动机构包括：

转盘，所述转盘可枢转地设在工作台上，所述转盘上设有驱动圆柱；

驱动板，所述驱动板上设有沿其长度方向设置的滑槽，所述驱动圆柱配合在滑槽内，所述驱动板的两端分别连接在两组下箱体上；

驱动电机，所述驱动电机设在工作台的下方，所述驱动电机的转轴穿过工作台与转盘相连。

6.根据权利要求1所述的一种用于非晶纳米晶制造的加热装置，其特征在于：所述发热件为电热丝或电热管。