[发明专利]一种基于等离子体射流引导的喷墨打印装置及喷印方法有效

专利信息
申请号: 201911192414.8 申请日: 2019-11-28
公开(公告)号: CN110816055B 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 叶冬;蒋宇;黄永安 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: B41J2/01 分类号: B41J2/01;B41J3/407
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 李智;孔娜
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 等离子体 射流 引导 喷墨 打印 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种基于等离子体射流引导的喷墨打印装置,其特征在于,该喷墨打印装置包括喷墨喷头和等离子体喷头,其中:

所述喷墨喷头包括喷嘴(1)和输送针头(2),工作时所述喷嘴(1)的一端与供墨单元(11)连接,其另一端与所述输送针头(2)连接,同时该喷嘴(1)与第一电源(12)连接,以此使得墨液带电荷并从所述输送针头(2)喷出;

所述等离子体喷头包括喷头主体(3)和电极针(4),所述喷头主体(3)的中间设置有通孔作为气体导路(9),用于放置所述电极针(4),同时该喷头主体(3)上设置有进气孔(8),用于向所述气体导路(9)通入工作气体,工作时所述电极针(4)与第二电源(13)连接,通过放电使得所述工作气体电离形成等离子体射流,作用于基板(17)使其带电荷,因所述第一电源(12)与第二电源(13)的极性相反,故带电荷的所述墨液在所述等离子体射流的引导下沉积到所述基板(17)区域化带电荷的位置,以此完成喷墨打印。

2.如权利要求1所述的基于等离子体射流引导的喷墨打印装置,其特征在于,所述等离子体喷头还包括设置在所述喷头主体(3)底部的聚焦单元,用于通过静电聚焦的方式控制所述等离子体射流的方向和直径,从而提高喷墨打印的精度和分辨率。

3.如权利要求2所述的基于等离子体射流引导的喷墨打印装置,其特征在于,所述聚焦单元包括预设数量的聚焦电极环(6)和绝缘垫圈(7),利用所述绝缘垫圈(7)将所述聚焦电极环(6)隔离。

4.如权利要求1所述的基于等离子体射流引导的喷墨打印装置,其特征在于,所述基板(17)为平面结构的绝缘基板或曲面结构的绝缘基板。

5.如权利要求1所述的基于等离子体射流引导的喷墨打印装置,其特征在于,当喷墨打印的基板为导体材质时,将所述喷墨喷头与电源连接,并将所述基板与所述电源的地极连接。

6.如权利要求1~5任一项所述的基于等离子体射流引导的喷墨打印装置,其特征在于,所述喷嘴(1)由金属材料制成,所述输送针头(2)由介质管制成,所述喷头主体(3)由绝缘材料制成。

7.一种基于等离子体射流引导的喷墨打印方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:

S1将喷墨喷头的喷嘴(1)与第一电源(12)连接并竖直放置在基板(17)上方,将等离子体喷头的电极针(4)与第二电源(13)连接并斜置于所述喷墨喷头的旁侧,所述第一电源(12)与第二电源(13)的极性相反;

S2将墨液通过供墨单元(11)输送至输送针头(2)的出口处,使得所述墨液在所述第一电源(12)的作用下带电荷,同时将工作气体(14)通过进气孔(8)通入气体导路(9),使得所述工作气体(14)在所述电极针的放电作用下形成等离子体射流;

S3喷射出的所述等离子体射流使得所述基板(17)区域化带电荷,并且所述等离子体射流在所述基板上形成的气态电极与所述喷嘴(1)之间形成电场,使得带电荷的所述墨液沉积到所述基板(17)带电荷的指定位置,以此在所述等离子体射流的引导下完成喷墨打印。

8.如权利要求7所述的基于等离子体射流引导的喷墨打印方法,其特征在于,所述步骤S3还包括利用聚焦单元控制所述等离子体射流的方向和直径。

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