[发明专利]线圈垂直位置可动态调整的蚀刻机结构

权利要求书

1.一种线圈垂直位置可动态调整的蚀刻机结构，其特征在于包括：

第一电浆反应腔体，其具有第一反应腔室；

多个第一升降模块，又每一第一升降模块，其具有：

第一支撑件，其环绕固设于该第一反应腔室的外围；及

多个第一升降件，其上、下滑动结合于该第一支撑件上；以及

第一线圈模块，其固设于该第一升降件。

2.如权利要求1所述的蚀刻机结构，其特征在于，该第一支撑件具有第一滑轨，又该第一升降件具有第一滑道，又该第一滑道可上、下滑动结合于该第一滑轨上。

3.如权利要求1所述的蚀刻机结构，其特征在于，该第一升降件具有第一固定单元，该第一线圈模块固设于该第一固定单元。

4.如权利要求1所述的蚀刻机结构，其特征在于，该第一支撑件与其结合该些第一升降件间，进一步设有第一子升降件，其上、下滑动结合于该第一支撑件上，又该些第一升降件，分别上、下滑动结合于该些第一子升降件上。

5.如权利要求4所述的蚀刻机结构，其特征在于，该第一子升降件具有第一子滑道及第一子滑轨，又该第一子滑道与该第一滑轨相结合，又该第一子滑轨与该第一滑道相结合。

6.如权利要求1所述的蚀刻机结构，其特征在于，其进一步具有：

第二电浆反应腔体，其具有与该第一反应腔室相连通的第二反应腔室；

多个第二升降模块，又每一第二升降模块，其具有：

第二支撑件，其环绕固设于该第二反应腔室的外围；及

多个第二升降件，其上、下滑动结合于该第二支撑件；以及

第二线圈模块，其固设于该第二升降件。

7.如权利要求6所述的蚀刻机结构，其特征在于，该第二支撑件具有第二滑轨，又该第二升降件具有第二滑道，又该第二滑道可上、下滑动结合于该第二滑轨上。

8.如权利要求6所述的蚀刻机结构，其特征在于，该第二升降件具有第二固定单元，该第二线圈模块固设于该第二固定单元。

9.如权利要求6所述的蚀刻机结构，其特征在于，该第二支撑件与其结合该些第二升降件间，进一步设有第二子升降件，其上、下滑动结合于该第二支撑件上，又该些第二升降件，分别上、下滑动结合于该些第二子升降件上。

10.如权利要求9所述的蚀刻机结构，其特征在于，该第二子升降件具有第二子滑道及第二子滑轨，又该第二子滑道与该第二滑轨相结合，又该第二子滑轨与该第二滑道相结合。