[发明专利]畸变地质体速度场的校正方法及装置

权利要求书

1.一种畸变地质体速度场的校正方法，其特征在于，所述方法包括：

根据地震数据中的振幅参数、同相轴连续性以及波形，分别拾取待校正地质体以及所述待校正地质体上、下地质体，其中，待校正地质体中发生畸变的部分设置为地质体控层组，待校正地质体与待校正地质体其上的地质体的界面称为地质体上控层，待校正地质体与待校正地质体其下的地质体的界面称为地质体下控层；

对所述待校正地质体发生畸变的部分以及其下的地质体发生畸变的部分进行平滑，以生成平滑结果；

根据所述平滑结果对所述待校正地质体以及所述待校正地质体其下的地质体的速度场进行校正；

所述根据所述平滑结果对所述待校正地质体以及所述待校正地质体其下的地质体的速度场进行校正，包括：

根据平滑结果计算平滑后的待校正地质体中地质体控层组与地质体上控层之间的距离以及平滑后的待校正地质体中地质体控层组与地质体下控层之间的距离；

根据待校正地质体中地质体控层组与地质体上控层之间的距离、待校正地质体中地质体控层组与地质体下控层之间的距离、所述平滑后的待校正地质体中地质体控层组与地质体上控层之间的距离以及所述平滑后的待校正地质体中地质体控层组与地质体下控层之间的距离生成速度场畸变校正因子；

地层满足等t的原则，t为地层垂向旅行时间，对于待校正地质体上控层与待校正地质体间以及待校正地质体与待校正地质体下控层间两套地层分别存在如下关系：

，其中，h_A为待校正地质体中地质体控层组到地质体上控层的距离，h_AS为地质体控层组平滑后到地质体上控层的距离，v_A为地质体控层组与地质体上控层层间速度，v_AS为消除地质体控层组畸变后地质体控层组与地质体上控层的层间速度，h_B为地质体下控层到地质体上控层的距离，h_BS为地质体下控层平滑后到地质体上控层的距离，v_B为地质体下控层与地质体控层组的层间速度，v_BS消除地质体下控层畸变后地质体下控层与地质体控层组的层间速度；

对上述关系进行整理，得到：，其中，，α_A为地质体控层组的速度场畸变校正因子，α_B为地质体下控层的速度场畸变校正因子；

根据所述地质体控层组的速度场畸变校正因子对所述待校正地质体进行校正以及根据所述地质体下控层的速度场畸变校正因子对所述待校正地质体其下的地质体的速度场进行校正。

2.根据权利要求1所述的校正方法，其特征在于，所述对所述待校正地质体发生畸变的部分以及其下的地质体发生畸变的部分进行平滑，以生成平滑结果，包括：

利用层位平滑方法，分别计算所述待校正地质体发生畸变的部分以及其下的地质体发生畸变的部分的平滑参数；

根据所述平滑参数对所述待校正地质体发生畸变的部分以及其下的地质体发生畸变的部分进行平滑。

3.根据权利要求1所述的校正方法，其特征在于，还包括：根据地质体速度在横向上的变化情况以及地质体下伏地层幅度，判断所述地质体是否为畸变地质体。