[发明专利]旋转机架束流线布局结构及自消色差常温质子治疗设备

权利要求书

1.一种旋转机架束流线布局结构，其特征在于，包括：

第一自消色差单元(10)，包括成对镜像对称配置的第一弯曲部段(11)与第二弯曲部段(12)，用于第一角度偏转束流;

第二自消色差单元(20)，包括成对镜像对称配置的第三弯曲部段(21)与第四弯曲部段(22)，用于第二角度偏转束流，所述第一角度大于所述第二角度;及，

线性束流聚焦单元(30)，配置于所述第一自消色差单元(10)与所述第二自消色差单元(20)之间;

其中，所述第一自消色差单元(10)还包括位于镜像对称中心的第一奇数单元四极透镜组(40)，所述第一奇数单元四极透镜组(40)以第一中间四极透镜(42)为对称轴中心并线性配置等数成对的第一侧边四极透镜(42,43)，并且所述第一中间四极透镜(42)至相邻第一侧边四极透镜(42,43)的间距为相同，用于与所述第一弯曲部段(11)与所述第二弯曲部段(12)一起消除束流经过所述第一自消色差单元(10)的色差。

2.根据权利要求1所述的旋转机架束流线布局结构，其特征在于，所述第二自消色差单元(20)还包括位于镜像对称中心的第二奇数单元四极透镜组(50)，所述第二奇数单元四极透镜组(50)以第二中间四极透镜(51)为对称轴中心并线性配置等数成对的第二侧边四极透镜(52,53)，并且所述第二中间四极透镜(51)至相邻第二侧边四极透镜(52,53)的间距为相同，用于与所述第三弯曲部段(21)与所述第四弯曲部段(22)一起消除束流经过所述第二自消色差单元(20)的色差。

3.根据权利要求2所述的旋转机架束流线布局结构，其特征在于，所述第二奇数单元四极透镜组(50)为三单元四极透镜组。

4.根据权利要求3所述的旋转机架束流线布局结构，其特征在于，所述第一奇数单元四极透镜组(40)为三单元四极透镜组。

5.根据权利要求1所述的旋转机架束流线布局结构，其特征在于，所述第一弯曲部段(11)与所述第二弯曲部段(12)为二分之一第一角度的同向偏转磁铁并形成为轴对称结构，所述第三弯曲部段(21)与所述第四弯曲部段(22)为二分之一第二角度的同向偏转磁铁并形成为轴对称结构，所述第一角度与所述第二角度为不同方向的角度偏转，所述第一角度大于90度，所述第二角度小于90度。

6.根据权利要5所述的旋转机架束流线布局结构，其特征在于，所述第一弯曲部段(11)、所述第二弯曲部段(12)、所述第三弯曲部段(21)、所述第四弯曲部段(22)皆仅包括一个偏转磁铁，所述第一角度等于所述第二角度加上垂直角度的和。

7.根据权利要求1所述的旋转机架束流线布局结构，其特征在于，所述线性束流聚焦单元(30)由两对双单元四极透镜组(31,32)组成，所述第二自消色差单元(20)的束流入口连接有双单元四极透镜组(60)，以供连接回旋加速器引出的束流线，所述第一自消色差单元(10)具有束流照射出口(13)，所述束流照射出口(13)的照射方向垂直于所述束流入口的注入方向。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的旋转机架束流线布局结构，其特征在于，所述第一自消色差单元(10)、所述第二自消色差单元(20)与所述线性束流聚焦单元(30)使用磁铁的材料皆为硅钢片，以有效预防磁场快速变化产生的涡流。

9.根据权利要求1-7中任一项所述的旋转机架束流线布局结构，其特征在于，所述第一自消色差单元(10)、所述第二自消色差单元(20)与所述线性束流聚焦单元(30)中所有的磁铁均采用常温磁铁模式。

10.一种自消色差常温质子治疗设备，其特征在于，包括如权利要求1-9中任一项所述的一种旋转机架束流线布局结构。