[发明专利]用于半导体器件的电子束检测设备、和电子束检测组件

权利要求书

1.一种用于半导体器件的电子束检测设备，包括：

工作台，以顶面承载所述半导体器件且能够沿正交的两方向平移；

瞄准装置，配置成通过采集所述半导体器件的图像来确定所述半导体器件在所述电子束检测设备的坐标系中的位置，且具备第一视场和第一光轴；和

电子束检测装置，配置成通过向所述半导体器件投射电子束和检测从所述半导体器件出射的电子束，且具备第二视场和与所述第一光轴不叠合的第二光轴；

其中，

所述电子束检测设备还包括反射装置，配置成将所述半导体器件的待测区域反射成像到所述瞄准装置内；且

所述第一视场利用所述反射装置的反射而投影到所述顶面上的第一可视区域，所述第二视场沿着所述电子束的光路投影到所述顶面上的第二可视区域，

其中，所述第一光轴与所述第二光轴成非零角度，且所述第一可视区域与所述第二可视区域各自中心间隔开布置或同心布置，并且

其中，在所述第一可视区域与所述第二可视区域同心布置的情况下，所述反射装置能够在第一位置与第二位置之间切换，所述待测区域被位于所述第一位置处的所述反射装置反射成像到所述瞄准装置的第一视场内，且所述第二位置偏离所述电子束的光路。

2.根据权利要求1所述的电子束检测设备，其中，所述反射装置能够在第一位置与第二位置之间移动。

3.根据权利要求1或2所述的电子束检测设备，其中，所述反射装置能够在第一位置与第二位置之间转动。

4.根据权利要求1所述的电子束检测设备，其中，所述反射装置在所述第一位置处时，所述电子束检测装置关闭，且所述待测区域位于所述第一可视区域；或

所述反射装置在所述第二位置处时，所述电子束检测装置开启，且所述待测区域位于所述第二可视区域。

5.根据权利要求1所述的电子束检测设备，其中，所述第一位置处于所述电子束的光路中。

6.根据权利要求1所述的电子束检测设备，其中，

所述第一光轴与所述第二光轴以非零角度相交。

7.根据权利要求6所述的电子束检测设备，其中，

所述第一光轴与所述第二光轴正交地相交。

8.根据权利要求7所述的电子束检测设备，其中，所述第一光轴与所述顶面平行，所述第二光轴与所述顶面垂直。

9.根据权利要求7或8所述的电子束检测设备，其中，在所述第一位置处，所述反射装置的反射面的法线与所述第一光轴和所述第二光轴共面，且与所述第一光轴和所述第二光轴中的每一个成45度角。

10.根据权利要求6所述的电子束检测设备，其中，

所述第一光轴与所述第二光轴倾斜地相交。

11.根据权利要求1所述的电子束检测设备，其中，所述瞄准装置是光学显微镜。

12.根据权利要求1所述的电子束检测设备，其中，所述电子束检测装置包括：

电子束源，被配置成发射入射电子束；

偏转器，被配置成偏转电子束投射至半导体器件的待测表面；和

电子检测器，被配置成通过检测由入射电子束投射至所述待测表面而产生的出射电子来成像所述待测表面。

13.根据权利要求1所述的电子束检测设备，还包括：控制电路，所述控制电路配置成：

通过根据预设的对准策略控制所述工作台平移来将所述半导体器件移入所述第一可视区域；

通过对所述瞄准装置所采集的所述半导体器件的图像进行处理来确定所述半导体器件在所述电子束检测设备的设备坐标系中的位置；和

控制所述工作台将所述半导体器件的所述待测区域从所述第一可视区域移入所述第二可视区域。