[发明专利]触控面板及其制作方法在审
申请号: | 201911176530.0 | 申请日: | 2019-11-26 |
公开(公告)号: | CN112860130A | 公开(公告)日: | 2021-05-28 |
发明(设计)人: | 蔡宜珍;方玮嘉;朱俊鸿;吴嘉祥 | 申请(专利权)人: | 英属维尔京群岛商天材创新材料科技股份有限公司 |
主分类号: | G06F3/044 | 分类号: | G06F3/044;G06F3/041 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 王玉双;张燕华 |
地址: | 维尔京群岛*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 面板 及其 制作方法 | ||
1.一种触控面板,其特征在于,包含:
一基板,其中该基板具有一显示区与一周边区;
多个周边引线,设置于该基板的该周边区;
多个第一中间层,该些第一中间层设置于该些周边引线与该基板之间;以及
一触控感应电极,设置于该基板的该显示区,该触控感应电极电性连接该些周边引线,其中该触控感应电极包括多个改质后的金属纳米线,该些改质后的金属纳米线在交叉点上具有直接接触的第一表面,且该些改质后的金属纳米线在非交叉点的第二表面上具有披覆结构。
2.根据权利要求1所述的触控面板,其特征在于,该些第一中间层包括该些改质后的金属纳米线。
3.根据权利要求1所述的触控面板,其特征在于,该些第一中间层包括多个未改质的金属纳米线,该些周边引线的外表面上具有该披覆结构。
4.根据权利要求1所述的触控面板,其特征在于,更包含:一膜层,其中该些改质后的金属纳米线裸露于该膜层。
5.根据权利要求4所述的触控面板,其特征在于,该触控感应电极更包括设置在该膜层中的多个未改质的金属纳米线。
6.根据权利要求1所述的触控面板,其特征在于,该披覆结构为导电材料所制成的层状结构、岛状突起结构、点状突起结构或其组合。
7.根据权利要求6所述的触控面板,其特征在于,该导电材料为银、金、铜、铂、铱、铑、钯或锇。
8.根据权利要求6所述的触控面板,其特征在于,该导电材料为石墨烯、纳米碳管、导电高分子或导电氧化物。
9.一种触控面板的制作方法,其特征在于,包括:
提供一基板,该基板具有一显示区与一周边区;
设置多个未改质的金属纳米线于该显示区与该周边区,其特征在于,该些未改质的金属纳米线在交叉点上具有直接接触的一第一表面,且该些未改质的金属纳米线具有在非交叉点上的一第二表面;
进行改质步骤,以形成多个改质后的金属纳米线所组成的一金属纳米线层,其中该些改质后的金属纳米线在该第二表面上具有一披覆结构;
设置一金属层于该周边区;以及
进行图案化步骤,包括:图案化位于该显示区的该金属纳米线层以形成一触控感应电极,该触控感应电极包括该些改质后的金属纳米线。
10.根据权利要求9所述的触控面板的制作方法,其特征在于,该进行图案化步骤更包含:一次性的图案化位于该周边区的该金属层与该金属纳米线层,其中图案化的该金属层形成多个周边引线,图案化的该金属纳米线层形成多个第一中间层,该些第一中间层设置于该些周边引线与该基板之间。
11.根据权利要求10所述的触控面板的制作方法,其特征在于,该些第一中间层包括该些改质后的金属纳米线。
12.根据权利要求9所述的触控面板的制作方法,其特征在于,该设置多个未改质的金属纳米线于该该显示区与该周边区更包含:设置一膜层于该些未改质的金属纳米线上,该些未改质的金属纳米线的一裸露部分裸露于该膜层,该裸露部分通过该改质步骤形成该些改质后的金属纳米线;该些未改质的金属纳米线的一未裸露部分内嵌于该膜层,该未裸露部分不受该改质步骤的作用。
13.根据权利要求9所述的触控面板的制作方法,其特征在于,该改质步骤包含涂布、化镀、电镀或溅镀以形成该披覆结构;该披覆结构为导电材料所制成的层状结构、岛状突起结构、点状突起结构或其组合。
14.根据权利要求13所述的触控面板的制作方法,其特征在于,该导电材料为银、金、铜、铂、铱、铑、钯或锇。
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