[发明专利]一种用于处理摄像头镜片CD纹蚀刻液及其使用方法在审
| 申请号： | 201911176158.3 | 申请日： | 2019-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN112851131A | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 郑资来;刘克山 | 申请（专利权）人： | 惠州市清洋实业有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00;C09K13/08 |
| 代理公司： | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人： | 林怡妏 |
| 地址： | 516032 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 处理 摄像头 镜片 cd 蚀刻 及其 使用方法 | ||
1.一种用于处理摄像头镜片CD纹蚀刻液，其特征在于：按重量份数计，其制备原料包括：2～4份的氢氟酸溶液，6～8份的硫酸溶液、5～6份的盐酸溶液、3份的醋酸溶液和79～84份的水。
2.根据权利要求1所述的一种用于处理摄像头镜片CD纹蚀刻液，其特征在于：所述的氢氟酸溶液中含有的氢氟酸分子的重量分数为10～40wt％，所述的氢氟酸溶液中含有的氯化物的含量为0～0.001wt％，所述的氢氟酸溶液中含有的硫酸盐的含量为0～0.002wt％。
3.根据权利要求1所述的一种用于处理摄像头镜片CD纹蚀刻液，其特征在于：所述的硫酸溶液中含有的硫酸分子的重量分数为75～98.3wt％。
4.根据权利要求1所述的一种用于处理摄像头镜片CD纹蚀刻液，其特征在于：所述的盐酸溶液中HCl分子的含量为10～38wt％。
5.根据权利要求1所述的一种用于处理摄像头镜片CD纹蚀刻液，其特征在于：所述的醋酸溶液中醋酸分子的含量为36～38wt％。
6.一种用于处理摄像头镜片CD纹蚀刻液的使用方法，其特征在于：包括以下步骤：
S1.将2～4份的氢氟酸溶液，6～8份的硫酸溶液、5～6份的盐酸溶液、3份的醋酸溶液和79～84份的水加入配料槽中混合均匀得到混合液，搅拌均匀后稀释得到摄像头镜片CD纹蚀刻液；
S2.将所述的步骤S2中制备得到的摄像头镜片CD纹蚀刻液以2.5～6μm/min的速率蚀刻所述的摄像头镜片CD纹。
7.根据权利要求6所述的一种用于处理摄像头镜片CD纹蚀刻液的使用方法，其特征在于：所述的步骤S1中混合液的搅拌温度为50～60℃，搅拌时间为10～20min。
8.根据权利要求6所述的一种用于处理摄像头镜片CD纹蚀刻液的使用方法，其特征在于：所述的步骤S1中稀释后的摄像头镜片CD纹蚀刻液的浓度为10～50wt％。
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