[发明专利]光学成像系统、取像装置及电子设备在审
申请号: | 201911161887.1 | 申请日: | 2019-11-22 |
公开(公告)号: | CN112835173A | 公开(公告)日: | 2021-05-25 |
发明(设计)人: | 杨健;李明 | 申请(专利权)人: | 江西晶超光学有限公司 |
主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00;G02B13/18 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 330096 江西省南昌市*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 成像 系统 装置 电子设备 | ||
1.一种光学成像系统,其特征在于,由物侧到像侧依次包括:
具有光焦度的第一透镜;
具有正光焦度的第二透镜;
具有正光焦度的第三透镜;
具有光焦度的第四透镜;
具有光焦度的第五透镜;
具有正光焦度的第六透镜;及
具有负光焦度的第七透镜;
其中,所述光学成像系统满足下列关系式:
1<SD12/SD21<1.4;
其中,SD12为所述第一透镜像侧面有效半口径;SD21为所述第二透镜物侧面有效半口径。
2.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜、第五透镜、第六透镜及第七透镜的物侧面及像侧面均为非球面。
3.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一透镜的物侧面近光轴处为凹面,像侧面近光轴处为凸面。
4.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第二透镜的物侧面近光轴处为凸面,像侧面近光轴处为凹面。
5.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第三透镜物侧面圆周处为凸面;像侧面近光轴处及圆周处均为凸面。
6.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第四透镜的物侧面近光轴处为凹面,圆周处为凸面;像侧面近光轴处为凸面,圆周处为凹面。
7.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第五透镜的物侧面近光轴处及圆周处均为凹面;像侧面圆周处为凸面。
8.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第六透镜的物侧面近光轴处和圆周处均为凸面;像侧面圆周处为凹面。
9.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第七透镜的物侧面近光轴处为凸面,圆周处为凹面;像侧面近光轴处为凹面,圆周处为凸面。
10.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统还包括红外滤光片,所述红外滤光片位于所述第七透镜与成像面之间。
11.根据权利要求1-10任一项所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统还包括光阑,所述光阑位于所述第二透镜与所述第三透镜之间。
12.根据权利要求11所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统满足以下条件式:
TTL/Imgh<1.3;
其中,TTL为所述第一透镜物侧面至光学成像系统成像面于光轴上的距离,Imgh为所述成像面上有效像素区域对角线长的一半。
13.根据权利要求11所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统满足以下条件式:
2<f/R14<4;
其中,f为所述光学成像系统的有效焦距,R14为所述第七透镜像侧面曲率半径。
14.根据权利要求11所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统满足以下条件式:
Fno<2;
其中,Fno为所述光学成像系统的光圈数。
15.根据权利要求11所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统满足以下条件式:
TTL/f<1.6;
其中,TTL为所述第一透镜物侧面至光学系统成像面于光轴上的距离;f为所述光学系统有效焦距。
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