[发明专利]一种屏下摄像头结构

说明书

一种屏下摄像头结构，包括显示屏，所述显示屏包括增透OLED面板，所述增透面板下设置有镜头模组，所述增透OLED面板通过如下步骤制得，在基板上成膜缓冲层，在薄膜晶体管区的缓冲层上图案化有源层，在有源层之上图案化栅极绝缘层，并整体成膜第一导电膜层及栅极层，在电容区蚀刻所有栅极金属，在薄膜晶体管区保留栅极金属及第一导电膜层，在其他区域根据图案化需要蚀刻栅极金属及导电膜层；图案化第二绝缘层，使得暴露薄膜晶体管区的有源层，并遮覆电容区的第一导电膜层；先后成膜第二导电膜层及电极层，在电容区蚀刻所有电极金属，在薄膜晶体管区保留源漏极和第二导电膜层，所述源漏极通过第二导电膜层与有源层接触。上述方案解决了可显示区域下方设置摄像模组的问题。

技术领域

本发明涉及新的全面屏设计领域，尤其涉及一种增加面板摄像头部分区域透光率的全面屏结构。

背景技术

随着显示技术的日益发展，各种新型技术不断涌现，透明显示技术因其透明的显示面板这一特性及其独特的应用，越来越受到人们的关注。

透明显示技术的核心是透明显示面板，透明显示板是一种能够显示图像的透明面板，它与双面显示板不同，双面显示板是一种能够在显示面板两侧同时显示图像的显示器件。而透明显示板在关闭时，面板就仿佛一块透明玻璃，当其工作时，观看者不仅能够观看到在面板上显示的内容，同时还能透过面板观看到面板后的物体。

智能手机发展到现在，能实现的功能已经越来越多，人们已经逐渐习惯用手机来进行社交、玩游戏和看视频等日常生活中必不可少的活动，与此同时人们也越来越喜欢可视角度大，大屏幕的手机，但前置摄像头占据了很多屏幕位置，为了达到更高的屏占比，提高显示效果，全面屏的概念应运而生。全面屏的“全面”，可以说是我们的美好愿望，但由于种种技术原因，全面屏无法达到真全面，虽然视觉趋向性让自动弹出、推滑盖的机械式设计大行其道，但无需质疑的是，兼顾美感和使用效率的设计方案才是手机设计的终途。屏下摄像头恰恰就是一个兼顾美学和使用效率的设计方案，而且似乎即将成为趋势。

发明内容

因此，需要提供一种新的屏幕结构设计，达到改进电容区的透光率并相应地设计屏下摄像头的全面屏结构。

为实现上述目的，发明人提供了一种屏下摄像头结构，包括显示屏，所述显示屏包括增透OLED面板，所述增透面板下设置有镜头模组，所述增透OLED面板通过如下步骤制得，在基板上成膜缓冲层，在薄膜晶体管区的缓冲层上图案化有源层，在有源层之上图案化栅极绝缘层，并整体成膜第一导电膜层及栅极层，在电容区蚀刻所有栅极金属，在薄膜晶体管区保留栅极金属及第一导电膜层，在其他区域根据图案化需要蚀刻栅极金属及导电膜层；图案化第二绝缘层，使得暴露薄膜晶体管区的有源层，并遮覆电容区的第一导电膜层；先后成膜第二导电膜层及电极层，在电容区蚀刻所有电极金属，在薄膜晶体管区保留源漏极和第二导电膜层，所述源漏极通过第二导电膜层与有源层接触。还包括制作步骤，制作钝化层并蚀刻暴露出漏极金属，再设置平坦层及画素定义层，蚀刻电容区上的平坦层和画素定义层。

进一步地，在电容区蚀刻所有栅极金属，在薄膜晶体管区保留栅极金属及第一导电膜层，在其他区域根据图案化需要蚀刻栅极金属及导电膜层，具体为，

在栅极层上涂布光阻，利用半色掩膜板进行曝光，设置电容区光线透过率为50％，薄膜晶体管的栅极走线部分透光率100％，其他部分透光率100％，然后进行显影液显影，去除其他部分的光阻，再进行蚀刻转印光罩图案，使得其他部分的栅极金属及第一导电膜层完全去除，通过灰化处理去除电容区的光阻，然后再次进行蚀刻，去除电容区的栅极金属及栅极走线部分的光阻。

进一步地，在电容区蚀刻所有电极金属，在薄膜晶体管区保留源漏极和第二导电膜层，具体为，