[发明专利]吸光分析装置在审

专利信息
申请号: 201911155732.7 申请日: 2019-11-22
公开(公告)号: CN111272655A 公开(公告)日: 2020-06-12
发明(设计)人: 波田美那子;林大介 申请(专利权)人: 株式会社堀场STEC
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01;G01N21/31
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 包跃华;金玉兰
地址: 日本京都*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 分析 装置
【说明书】:

本发明提供一种能够直接测定流入到腔室等容器内或在腔室等容器内产生的分析对象气体,且能够防止由于水分的凝结引起的测定误差的吸光分析装置。该吸光分析装置具备:光射出模块,以遮盖流入或产生分析对象气体的容器的第一开口的方式安装,并将光向所述容器内射出;以及光检测模块,检测从所述光射出模块射出并通过了所述容器内的光,所述光射出模块具备:底座凸缘,在所述容器的外表面安装于所述第一开口的周围;窗口材料,其外侧面相对于与所述容器内接触的内侧面倾斜预定角度;密封部件,被夹在所述底座凸缘与所述窗口材料的内侧面之间;以及按压体,具备固定于所述底座凸缘的固定面和将所述窗口材料的外侧面向所述底座凸缘侧按压的倾斜面。

技术领域

本发明涉及一种基于吸光度对分析对象气体进行分析的吸光分析装置。

背景技术

在半导体的制造工艺中,对半导体基板(硅晶片)表面进行各种微细加工和/或处理。此时,使用蚀刻气体、外延生长用的反应气体、CVD(化学气相沉积)用的反应气体等各种工艺气体。已知如果这些工艺气体中含有水分,则工艺气体与水分、或基板表面与水分发生反应而生成不需要的副产物,其结果制造的半导体的成品率显著下降。

因此,如专利文献1所示,在从作为真空容器的腔室排出各种气体的排气流路中的一部分设置作为光学单元的吸光分析装置,对排出气体中包含的气体的水分含量、应从腔室内排除的杂质等进行监测。

然而,这样的吸光分析装置仅对从腔室排出的气体进行监测,因此,即使吸光分析装置未检测出杂质,也有可能在腔室内残留非常少量的杂质。

此外,在想要基于吸光度来判定是否存在上述那样的非常少量的杂质的情况下,如果水分凝结于构成例如光学单元的窗口材料,则有可能产生测定误差,并产生错误判定。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2010-190824号公报

发明内容

技术问题

本发明是鉴于上述问题而完成的,其目的在于提供能够直接测定流入到腔室等容器内或在腔室等容器内产生的分析对象气体,且能够防止由于水分的凝结引起的测定误差的吸光分析装置。

技术方案

即,本发明的吸光分析装置的特征在于,具备:光射出模块,以遮盖流入或产生分析对象气体的容器的第一开口的方式安装,并将光向所述容器内射出;以及光检测模块,检测从所述光射出模块射出并通过了所述容器内的光,所述光射出模块具备:底座凸缘,在所述容器的外表面安装于所述第一开口的周围;窗口材料,其外侧面相对于与所述容器内接触的内侧面倾斜预定角度;密封部件,被夹在所述底座凸缘与所述窗口材料的内侧面之间;以及按压体,具备固定于所述底座凸缘的固定面和将所述窗口材料的外侧面向所述底座凸缘侧按压的倾斜面。

如此,能够基于通过了容器内的光对分析对象气体进行分析,因此,如果例如在容器内存在分析对象气体,则能够直接测定其吸光度。

进一步地,为了消除由所述光射出模块所射出的光带来的干涉影响,所述窗口材料具有倾斜预定角度的外侧面,所述按压体具备倾斜面,因此,能够将所述窗口材料的内侧面笔直地按压到所述密封部件而均匀地挤压所述密封部件。因此,能够防止所述密封部件被不均匀地挤压而使所述窗口材料在预料之外的位置与所述底座凸缘接触而被冷却,并因存在于所述容器内的水分而在所述窗口材料的内侧面产生结露。

根据这些设置,能够基于吸光度准确地判定存在于容器内的微小量的分析对象气体的有无。

为了防止所述窗口材料与所述底座凸缘接触而使热量散失,产生在所述窗口材料的内侧面容易发生结露的状态,可以在所述按压体固定于所述底座凸缘的状态下,所述窗口材料挤压所述密封部件,并且所述窗口材料的内侧面与所述底座凸缘分离。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社堀场STEC,未经株式会社堀场STEC许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911155732.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top