[发明专利]一种掩膜版、蒸镀系统及掩膜版的制备方法

权利要求书

1.一种掩膜版，其特征在于，包括：

多个掩膜条，所述掩膜条上设置有至少一组有效蒸镀区以及位于所述有效蒸镀区周围的过渡区；

其中，所述掩膜条由至少两个掩膜主体层叠设置形成，至少部分所述掩膜主体对应所述过渡区的位置设置有通孔，至少两个相邻所述掩膜主体上的所述通孔之间错位设置，以使蒸镀材料无法通过所述过渡区通孔。

2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜条包括：

层叠设置的第一掩膜主体和第二掩膜主体，所述第一掩膜主体对应所述过渡区的位置设置有至少一个第一通孔，所述第二掩膜主体对应所述过渡区的位置设置有至少一个第二通孔；在所述第一掩膜主体至所述第二掩膜主体方向上，所述第一通孔被所述第二掩膜主体遮挡，所述第二通孔被所述第一掩膜主体遮挡。

3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，

每个所述掩膜主体包括相对设置的上表面和下表面，所述上表面设置有第一开口，所述下表面对应所述第一开口的位置设置有第二开口，且所述第一开口与所述第二开口连通；所述第一开口和所述第二开口连接处定义为第一平面，在远离所述第一平面方向上，所述第二开口在平行于所述第一平面方向上的横截面的面积逐渐增大。

4.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，

其中一个所述掩膜主体的所述第二开口与相邻的所述掩膜主体的所述第一开口相邻且对应设置，且其中一个所述掩膜主体的所述第二开口在平行于所述第一平面方向上的最大横截面积小于等于相邻的所述掩膜主体的所述第一开口在平行于所述第一平面方向上的最小横截面积。

5.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，

所述第一开口和所述第二开口连接处上的一点和所述第二开口与所述下表面连接处上的一点连线，最短的所述连线为第一连线，且至少两个所述掩膜主体的所述第一连线处于同一直线上。

6.根据权利要求5所述的掩膜版，其特征在于，

所述第二开口的内壁为斜面。

7.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版还包括：

框架，每层所述掩膜主体的两端固定在所述框架上；或者，相邻所述掩膜主体重叠的区域之间互相连接，其中一层所述掩膜主体的两端固定在所述框架上。

8.一种蒸镀系统，其特征在于，所述蒸镀系统包括：

权利要求1-7任一项所述的掩膜版以及蒸镀装置，所述蒸镀装置用于基于所述掩膜版的所述有效蒸镀区，对待蒸镀基板进行蒸镀。

9.一种掩膜版的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

形成多个掩膜条，所述掩膜条上设置有多个有效蒸镀区以及位于所述有效蒸镀区周围的过渡区；

将多个所述掩膜条进行张网固定，以形成所述掩膜版；

其中，所述掩膜条由至少两个掩膜主体层叠设置形成，至少部分所述掩膜主体对应所述过渡区的位置设置有通孔，至少两个相邻所述掩膜主体上的所述通孔之间错位设置，以使蒸镀材料无法通过所述过渡区通孔。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，

所述形成掩膜条包括：利用蚀刻液蚀刻的方式形成至少两个掩膜主体，每个所述掩膜主体上对应有效蒸镀区的位置设置有开口，对应所述过渡区的位置设置有通孔；

所述将所述掩膜条进行张网固定包括：将至少两个所述掩膜主体分别进行张网固定；或者，

形成所述掩膜条包括：提供第一芯膜，在第一芯膜表面利用电镀的方式形成第一掩膜主体；去除第一芯膜；在第一掩膜主体表面设置第二芯膜，在第一掩膜主体表面利用电镀的方式形成第二掩膜主体；去除第二芯膜，所述第一掩膜主体和所述第二掩膜主体相互连接；

所述将所述掩膜条进行张网固定包括：将所述第一掩膜主体或所述第二掩膜主体进行张网固定。