[发明专利]高稳定性银纳米线/氧化石墨烯复合透明导电薄膜的制备方法有效
申请号: | 201911148929.8 | 申请日: | 2019-11-21 |
公开(公告)号: | CN111029037B | 公开(公告)日: | 2020-11-20 |
发明(设计)人: | 郭兴忠;张燕;白盛池;陈天锐;杨辉 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | H01B13/00 | 分类号: | H01B13/00;H01B13/30 |
代理公司: | 杭州中成专利事务所有限公司 33212 | 代理人: | 金祺 |
地址: | 310058 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 稳定性 纳米 氧化 石墨 复合 透明 导电 薄膜 制备 方法 | ||
1.高稳定性银纳米线/氧化石墨烯复合透明导电薄膜的制备方法,其特征在于包括以下步骤:
1)、银纳米线墨水和氧化石墨烯墨水的制备:
以银纳米线分散液为前驱体溶液,与助剂混合,得AgNW墨水;AgNW墨水中,AgNW的浓度为0.1~20mg/mL;
以氧化石墨烯分散液为前驱体溶液,与助剂混合,得GO墨水;GO墨水中,GO的浓度为0.1~1mg/mL;
助剂由粘结剂、表面活性剂和溶剂组成;
所述粘结剂为羟乙基纤维素、甲基纤维素、聚阴离子纤维素、纤维素烷基醚、纤维素羟烷基醚中的至少一种,
粘结剂在AgNW墨水中的浓度为0.5~30mg/mL,
粘结剂在GO墨水中的浓度为0.5~30mg/mL;
所述表面活性剂为Zonyl TBS、Zonyl FSE、Zonyl FSD、FC-4430中的至少一种,
表面活性剂在AgNW墨水中的浓度为0.01~10mg/mL,
表面活性剂在GO墨水中的浓度为0.01~10mg/mL,
所述溶剂为无水乙醇、去离子水、丙酮或乙二醇;
2)、透明薄膜基底的预处理:
将基底进行清洗处理,得预处理后基底;
3)、AgNW/GO复合薄膜的制备:
先在预处理后基底上涂布AgNW墨水至所形成的湿膜的厚度为10~50μm,然后于40~50℃固化15~20min,从而形成AgNW薄膜;
接着在AgNW薄膜上涂布GO墨水至所形成的湿膜的厚度为10~50μm,然后于40~50℃固化15~20min,从而形成AgNW/GO复合薄膜;
4)、AgNW/GO复合薄膜的热处理:
将步骤3)所得物置于烘箱中于100~120℃进行热处理1~2h,形成AgNW/GO复合透明导电薄膜。
2.根据权利要求1所述的高稳定性银纳米线/氧化石墨烯复合透明导电薄膜的制备方法,其特征在于:
所述步骤2)中:
分别用去离子水、乙醇和丙酮将基底超声清洗20-30min,再用紫外臭氧清洗仪表面处理5-20min。
3.根据权利要求2所述的高稳定性银纳米线/氧化石墨烯复合透明导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤2)中,基底为PET、PVA、玻璃或硅片。
4.根据权利要求1~3任一所述的高稳定性银纳米线/氧化石墨烯复合透明导电薄膜的制备方法,其特征在于:所述步骤3)中,涂布方式为迈耶棒刮涂、喷涂或旋涂。
5.根据权利要求1所述的高稳定性银纳米线/氧化石墨烯复合透明导电薄膜的制备方法,其特征在于:
AgNW墨水中,AgNW的浓度为2~3.5mg/mL;
GO墨水中,GO的浓度为0.1~0.3mg/mL。
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