[发明专利]能够形成高效高平面度的研磨抛光设备及研磨抛光方法

权利要求书

1.一种能够形成高效高平面度的研磨抛光设备，其特征在于，所述研磨抛光设备包括底座、设置在所述底座上的抛光盘、及用于固定待抛光件且与所述抛光盘的盘面相对设置的模具盘，所述抛光盘的旋转方向与所述模具盘的旋转方向一致，抛光盘的转速大于所述模具盘的转速；其中，所述研磨抛光设备还设置有转速盘底座、设置在所述转速盘底座上的转速盘及机械臂，所述机械臂的一端通过连接件与所述转速盘连接，另一端与所述模具盘连接，所述转速盘转动并通过所述机械臂带动所述模具盘转动。

2.如权利要求1所述的能够形成高效高平面度的研磨抛光设备，其特征在于，所述连接件可相对于所述抛光盘纵向伸缩，所述机械臂可相对于所述抛光盘横向伸缩。

3.如权利要求1所述的能够形成高效高平面度的研磨抛光设备，其特征在于，所述转速盘的直径小于或等于所述模具盘的直径，所述机械臂的长度小于抛光盘的半径。

4.如权利要求1所述的能够形成高效高平面度的研磨抛光设备，其特征在于，所述转速盘与调速马达连接，所述调速马达的调速范围为10～60转/分钟。

5.如权利要求1所述的能够形成高效高平面度的研磨抛光设备，其特征在于，所述研磨抛光设备还包括用于夹持所述模具盘的夹持臂，所述夹持臂包括主定位轮及从定位轮，所述主定位轮及从定位轮与所述模具盘的边缘接触。

6.如权利要求5所述的能够形成高效高平面度的研磨抛光设备，其特征在于，所述夹持臂还包括用于连接所述主定位轮与从定位轮的调节部。

7.一种能够形成高效高平面度的研磨抛光方法，所述研磨抛光方法采用如权利要求1至6中任意一项所述的研磨抛光设备，其特征在于，所述方法包括如下步骤：

将待抛光件与模具盘连接，所述待抛光件的待抛光面与抛光盘面相对，所述模具盘的夹持臂根据所述待抛光件的大小进行调节并将所述待抛光件夹持固定；

调节所述连接件的高度及机械臂的长度，使得所述待抛光件的抛光面与所述抛光盘面接触；

启动抛光盘开关，使得抛光盘旋转，再启动转速盘开关，使得转速盘转动从而通过机械臂转动带动模具盘转动，直至所述待抛光件完成抛光动作，关闭设备。

8.如权利要求7所述的能够形成高效高平面度的研磨抛光方法，其特征在于，所述使得转速盘转动从而通过机械臂转动带动模具盘转动具体为：

所述转速盘转动带动所述连接件转动，所述连接件沿着所述转速盘的圆周转动从而控制所述机械臂转动以带动所述模具盘转动；其中，所述模具盘转动轨迹的圆心不定。

9.如权利要求7所述的能够形成高效高平面度的研磨抛光方法，其特征在于，所述转速盘与调速马达连接，所述调速马达的调速范围为10～60转/分钟。

10.如权利要求7所述的能够形成高效高平面度的研磨抛光方法，其特征在于，所述方法还包括：

在抛光过程中，向所述模具盘及抛光盘喷洒抛光液，以降低所述待抛光件在抛光过程中产生的热量。