[发明专利]一种垂向交接装置及光刻系统在审
| 申请号: | 201911137478.8 | 申请日: | 2019-11-19 |
| 公开(公告)号: | CN112904676A | 公开(公告)日: | 2021-06-04 |
| 发明(设计)人: | 徐腾肖;朱正平;姜杰;李冰 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 交接 装置 光刻 系统 | ||
本发明属于光刻技术领域,具体公开了一种垂向交接装置及光刻系统。垂向交接装置包括基座,其上设置有垂向导向件;驱动电机,其设置在所述基座上;曲柄滑块机构,其包括曲柄及滑块,所述驱动电机的输出轴与所述曲柄连接,所述滑块与所述垂向导向件滑动连接,且所述曲柄的转动能带动所述滑块相对所述垂向导向件竖直升降;吸盘,其与所述滑块的上端连接。光刻系统包括上述的垂向交接装置。本发明提供的垂向交接装置及光刻系统,能够简化垂向交接装置及光刻系统的结构,降低垂向交接装置的成本,减小垂向交接装置的占地空间。
技术领域
本发明涉及光刻技术领域,尤其涉及一种垂向交接装置及光刻系统。
背景技术
光刻技术是指在光照作用下,借助光致抗蚀剂将掩膜版上的图形转移到硅片等基片上的技术。在光刻的过程中,存在对基底的垂直交接过程,以使基底从光刻系统中的一个设备转移至另一设备中,对基底进行处理,如在光刻开始前,需采用垂向交接机构将基底从机械手交接至曝光台上,在光刻结束后,需采用另一垂向交接机构将基底从机械手交接至水冷盘中进行冷却。
现有技术提供的垂向交接机构常采用如下结构进行垂向驱动:电机配合丝杠螺母机构,该种机构存在反向间隙弹性变形大、精度低的问题,且由于电机与丝杠螺母运动方向一致,导致高度方向占用空间大;Z向直线电机,由于自身不存在断电保持功能,需另外增加气浮实现Z轴垂直度,成本较高,不易维护;气动升降机构,存在结构复杂、占地空间大、成本较高的问题。
因此,亟需一种精度高、成本低、占地空间小及结构简单的垂向交接装置。
发明内容
本发明的一个目的在于提供一种垂向交接装置,在保证垂向运动精度的同时,降低垂向交接装置的成本,减小垂向交接装置的占地空间。
本发明的另一目的在于提供一种光刻系统,减小光刻系统的成本,简化光刻系统的结构,减小光刻系统的体积。
为实现上述目的,本发明采用下述技术方案:
一种垂向交接装置,包括:
基座,其上设置有垂向导向件;
驱动电机,其设置在所述基座上;
曲柄滑块机构,其包括曲柄及滑块,所述驱动电机的输出轴与所述曲柄连接,所述滑块与所述垂向导向件滑动连接,且所述曲柄的转动能带动所述滑块相对所述垂向导向件竖直升降;
吸盘,其与所述滑块的上端连接。
作为一种垂向交接装置的优选技术方案,所述曲柄滑块机构还包括连杆,所述连杆的一端与所述曲柄铰接,所述连杆的另一端与所述滑块铰接,且所述连杆与所述曲柄的铰接位置偏离所述曲柄与所述输出轴的连接位置。
作为一种垂向交接装置的优选技术方案,所述曲柄上设置有第一转轴和第二转轴,所述第一转轴和所述第二转轴同轴设置在所述曲柄的两侧,且所述第一转轴与所述输出轴连接。
作为一种垂向交接装置的优选技术方案,所述垂向交接装置还包括:
上到位检测装置,其相对所述基座固定,用于检测所述垂向交接装置是否到达或靠近上交接位置;
下到位检测装置,其相对所述基座固定,用于检测所述垂向交接装置是否到达或靠近下交接位置;
控制器,所述驱动电机、所述上到位检测装置及所述下到位检测装置均与所述控制器连接。
作为一种垂向交接装置的优选技术方案,所述垂向交接装置还包括:
机械限位组件,用于限制所述曲柄的转动角度。
作为一种垂向交接装置的优选技术方案,所述机械限位组件包括:
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