[发明专利]一种基板及监控基板上膜层边界位置的方法有效

专利信息
申请号: 201911131299.3 申请日: 2019-11-19
公开(公告)号: CN110989217B 公开(公告)日: 2021-09-24
发明(设计)人: 俞云;陆骅俊;颜玥 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13;G02F1/1337
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 徐世俊
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 监控 基板上膜层 边界 位置 方法
【说明书】:

本申请提供一种基板及监控基板上膜层边界位置的方法,该基板对应非显示区域设有多组定位单元,每组定位单元包括沿垂直于基板边界方向等间距排列的至少两一级定位标记和与之一一对应的一级定位标尺;相邻两一级定位标记之间设有与一级定位标记排列方向一致且等间距的至少两二级定位标记,以及与二级定位标记一一对应的二级定位标尺;相邻两一级定位标记之间具有一级单位间距,相邻两二级定位标记之间具有二级单位间距,本申请根据膜层的边界所对应的多组定位单元的一级定位标尺与二级定位标尺的读数,以及结合一级单位间距与二级单位间距用来确定膜层边界的具体位置。

技术领域

本申请涉及液晶显示器生产制造领域,尤其涉及一种基板及监控基板上膜层边界位置的方法。

背景技术

一般TFT LCD的配向膜为聚酰亚胺膜(即PI配向膜),其通过物理或化学作用,让液晶在液晶盒内整齐排列,形成有序的预倾角,使LCD能正常显示。PI配向膜的膜厚的均一性与PI配向膜的配向能力直接相关。而PI配向膜在显示区边缘膜厚均一性控制一直是TFTLCD制程中的难题,其中PI配向膜精度是影响显示区区边缘PI配向膜膜厚均一性的关键因子之一。PI配向膜精度的监控也一直是LCD制程中比较耗费产能和人力的工作,一般采用离线的手工测量的方式,进而浪费了大量的调试时间,降低了生产的效率。优化PI配向膜精度监控可以有效提高监控的准确度,同时提升产能和缩减人力成本。

因此,现有技术存在缺陷,急需改进。

发明内容

本申请提供一种基板及监控基板上膜层边界位置的方法,能够解决采用手工测量的方式造成的监控精度不高,以及耗费大量的调试时间,生产效率较低等问题。

为解决上述问题,本申请提供的技术方案如下:

本申请提供一种监控基板上膜层边界位置的方法,所述方法包括以下步骤:

步骤S10,提供一基板,所述基板对应显示区域外围的非显示区域设置有多组定位单元,每组定位单元包括由所述显示区域边缘向所述基板边缘分别呈一字型等间距排列的至少两一级定位标记和至少两一级定位标尺,所述一级定位标记与所述一级定位标尺一一对应设置;

步骤S20,从所述显示区域的边缘处开始由内向外分别采集所述膜层的边界所对应所述多组定位单元的位置信息;

步骤S30,根据所述位置信息确定所述膜层边界所对应所述多组定位单元的所述一级定位标记,读取所述一级定位标记所对应的所述一级定位标尺的读数,以确定所述膜层边界的具体位置。

在本申请的方法中,所述一级定位标尺的读数由所述显示区域边缘向所述基板边缘依次递增,所述一级定位标尺的读数为与之对应的所述一级定位标记从所述显示区域边缘向所述基板边缘方向上的计数个数。

在本申请的方法中,相邻两所述一级定位标记之间设置有呈一字型等间距排列的至少两二级定位标记,以及与所述二级定位标记相对应的二级定位标尺,相邻两所述一级定位标记之间的所述二级定位标尺的读数由所述显示区域边缘向所述基板边缘一侧依次递增,且所述二级定位标尺的读数为与之对应的所述二级定位标记在相邻两所述一级定位标记之间从所述一级定位标尺的读数增大的方向上的计数个数。

在本申请的方法中,相邻两所述一级定位标记之间的间距等于相邻两所述一级定位标记之间的所述二级定位标记的个数与相邻两所述二级定位标记间的二级单位间距的乘积。

在本申请的方法中,读取所述一级定位标记所对应的所述一级定位标尺的读数,以确定所述膜层边界的具体位置的步骤包括:

若对应所述定位单元处的所述膜层边界正对于所述一级定位标记,则根据与之对应的所述一级定位标尺的读数与相邻两所述一级定位标记间的一级单位间距的乘积便为所述膜层边界距所述显示区域边缘的距离;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TCL华星光电技术有限公司,未经TCL华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911131299.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top