[发明专利]一种金属靶材焊接后整形方法及焊接方法在审

专利信息
申请号: 201911127293.9 申请日: 2019-11-18
公开(公告)号: CN110814096A 公开(公告)日: 2020-02-21
发明(设计)人: 姚力军;潘杰;边逸军;王学泽;廖培君 申请(专利权)人: 宁波江丰电子材料股份有限公司
主分类号: B21D3/10 分类号: B21D3/10;B21D37/16
代理公司: 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 代理人: 王岩
地址: 315400 浙江省宁波市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 金属 焊接 整形 方法
【权利要求书】:

1.一种金属靶材焊接后整形方法,其特征在于,所述方法包括:

(1)在靶材组件的靶材上方由下往上依次设置缓冲垫和垫块,所述缓冲垫的硬度为30~60HA,抗张强度为50~100kg/cm2

(2)利用整形机对所述靶材组件进行加压整形;

所述缓冲垫的厚度为8~15mm;

所述垫块的厚度为25~40mm;

所述垫块选自硬度为HV30~80的软质金属;

步骤(1)所述缓冲垫为硅胶垫;

步骤(1)还包括在所述靶材组件的背板下方设置垫圈;所述垫圈的厚度为15~30mm;

在步骤(1)之前还包括将靶材组件加热的步骤;所述背板熔点大于等于靶材熔点时,靶材组件加热的温度为靶材熔点的0.2~0.4倍;或者,所述靶材熔点大于背板熔点时,靶材组件加热的温度为背板熔点的0.2~0.4倍;

所述加压整形为加压至靶材中间凹陷0.3~0.6mm为止。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(1)中所述靶材组件为焊接后靶材与背板组合的靶材组件。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述靶材的材质为金属。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,靶材的所述金属为W或Ta中的任意一种,或者W、Si或Ta中至少两种的组合。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,靶材的所述金属为W和Si。

6.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,靶材的所述金属为WSi、TiAl、TaSi或CrSi中的任意一种或至少两种的组合。

7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,靶材的所述金属为WSi或TaSi。

8.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述背板的材质为铝合金或铜合金。

9.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述焊接为钎焊或扩散焊。

10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述焊接为扩散焊。

11.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,步骤(1)中所述缓冲垫的直径大于靶材的直径。

12.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述缓冲垫的厚度为10~12mm。

13.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述缓冲垫以靶材组件为基准居中设置。

14.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述缓冲垫的硬度为40~50HA。

15.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述缓冲垫的抗张强度为65~85kg/cm2

16.根据权利要求15所述的方法,其特征在于,所述缓冲垫为软质硅胶垫。

17.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,步骤(1)中所述垫块的直径为靶材直径的0.4~0.6倍。

18.根据权利要求17所述的方法,其特征在于,所述垫块的直径为靶材直径的0.45~0.55倍。

19.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述垫块的厚度为30~35mm。

20.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述垫块选自硬度为HV40~60的软质金属。

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