[发明专利]一种密封式微流控乳化芯片及其制作工艺和使用方法

权利要求书

1.一种密封式微流控乳化芯片的制作工艺方法，其特征在于，工艺流程包括以下步骤：S1,制作微流控芯片模具；S2，填充预聚体形成液滴收集池模具；S3，在上述模具上浇筑盖片的材料并加热固化，剥离该盖片的材料，该材料上带有微流沟道与液滴收集池，沿其纵向中轴线依次打孔，形成具有油相进样孔的盖片结构；S4，将盖片和基片放入等离子清洗机中清洗改性，取出后，将盖片与基片贴合在一起，制得；该芯片包括与进样口相连通的微流沟道，具有引流作用的微流沟道，用于液滴乳化产生的微流沟道以及呈圆饼状的微流沟道，微流沟道与其上的水珠状固化后的预聚体构成液滴收集池。

2.根据权利要求1所述的一种密封式微流控乳化芯片的制作工艺方法，其特征在于，所述芯片模具是利用常用微流控器件加工工艺制作的一层具有同一高度的结构，包括微流沟道和准液滴收集池。

3.根据权利要求1所述的一种密封式微流控乳化芯片的制作工艺方法，其特征在于，滴收集池模具是通过滴加一定体积的预聚体，由预聚体在表面张力作用下，成型，形成滴收集池模具。

4.根据权利要求3所述的一种密封式微流控乳化芯片的制作工艺方法，其特征在于，所述预聚体为可固化的液态材料。

5.根据权利要求4所述的一种密封式微流控乳化芯片的制作工艺方法，其特征在于，所述预聚体为环氧树脂或光刻胶。

6.一种密封式微流控乳化芯片的使用方法,其特征在于，所述的芯片使用步骤如下：

S1、中空配件7倒扣在芯片上；

S2、进样口51连接充满连续相的导管，导管内在与出口间隔100μL连续相处有一段10μL分散相，其余全是连续相，连续相为氟化油，负压导管71连接真空泵；

S3、将真空泵气压调至-0.55—﹣0.60psi，真空度高于-0.55psi，真空泵开始工作，直至-0.60psi，开始进样，分散相进样完成后，将真空泵气压调至最大，使连续相快速充满器件内部；

S4、器件内部被填充满之后，对进样口51进行密封处理，灌注配制好的PDMS预聚体，移至反应仪器进行反应。